Occasion AIXTRON TS OCSH 31X2 #9181636 à vendre en France

AIXTRON TS OCSH 31X2 est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur de haute précision qui est utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs composés tels que l'Arsenide de Gallium (GaAs). La machine se compose d'un certain nombre de composants, dont une chambre de procédé, des suscepteurs chauffés par douche, un creuset, un régulateur de pression, un équipement de contrôle de gaz, et une source RF basse pression. La chambre de procédé est une enceinte métallique étanche qui contient les réactifs et le substrat. La chambre est conçue pour maintenir le vide et assurer une répartition homogène des réactifs. A l'intérieur de la chambre, les réactifs sont chauffés à des températures allant jusqu'à 1000 ° C, les suscepteurs fournissant la chaleur nécessaire. Le creuset à l'intérieur de la chambre contient les réactifs et est chauffé par les suscepteurs chauffés par la douche. Le système de contrôle des gaz injecte des quantités précises de gaz réactifs à travers la buse dans la chambre pour fournir les réactions chimiques requises. La source RF basse pression est utilisée pour exciter les réactifs et générer des revêtements uniformes sur le substrat. Le régulateur de pression est utilisé pour réguler la pression à l'intérieur de la chambre afin d'assurer une répartition uniforme des réactifs et d'éviter une réaction prématurée. La chambre à température maintenue et pression contrôlée permet des processus précis et répétables avec des variations de processus minimes. Par conséquent, TS OCSH 31X2 est capable de produire des dispositifs de haute qualité, reproductibles et rentables. De plus, AIXTRON TS OCSH 31X2 est équipé de diverses fonctions de sécurité. Il comprend un obturateur automatique qui empêche la lumière UV d'entrer dans la machine pendant le processus réactif, en plus d'un outil d'arrêt d'urgence qui arrête tout le processus si quelque chose ne va pas. Il dispose également de divers capteurs qui sont utilisés pour contrôler la température, la pression et les gaz réactifs dans la chambre, fournissant une couche supplémentaire de sécurité et de précision. TS OCSH 31X2 est un outil avancé pour la production de semi-conducteurs composés. Avec sa puissante combinaison de sources de chaleur et de pression, des contrôles précis du gaz et des dispositifs de sécurité automatisés, il peut fournir des résultats uniformes et reproductibles avec des variations de processus minimales. C'est un outil inestimable pour la production d'appareils GaAs tels que LED, lasers et cellules solaires.