Occasion AIXTRON VP 2400HW #9222203 à vendre en France

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AIXTRON VP 2400HW
Vendu
Fabricant
AIXTRON
Modèle
VP 2400HW
ID: 9222203
MOCVD System.
AIXTRON VP 2400HW est un réacteur épitaxié haut de gamme pour le dépôt chimique en phase vapeur (MOCVD). Ce réacteur est conçu pour répondre aux exigences les plus élevées dans les procédés de fabrication, avec la capacité de déposer des couches d'oxyde métallique, de silicium et de nitrure. AIXTRON VP 2400 HW est équipé d'une chambre de traitement haute pression Delta et est équipé d'une unité de source MOCVD haut de gamme offrant des gaz plus purs, ainsi que des rendements de production améliorés. Cette source est intégrée dans la chambre de procédé haute pression, ce qui améliore l'homogénéité des dépôts de matériaux. VP 2400HW est également équipé d'un équipement de chargement et de déchargement automatique de suscepteur haut de gamme. Ce système est capable de manipuler jusqu'à 4 plaquettes en même temps et permet d'affiner l'introduction du réactif. Cette unité permet également le chargement et le déchargement de plaquettes sans intervention manuelle ni robots externes coûteux. Le VP 2400 HW est équipé d'une machine de positionnement flexible. Cet outil permet un positionnement exact des réactifs au-dessus des plaquettes, et dispose également d'une option de chauffage multi-zones, qui peut chauffer uniformément l'échantillon jusqu'à un maximum de 1400 ° C La 3-Zone Chimney Design avancé d'AIXTRON VP 2400HW permet un échauffement et un refroidissement continus de l'ensemble de la chambre de procédé. Cette conception permet également de réaliser des couches très homogènes avec une précision améliorée. AIXTRON VP 2400 HW est également équipé d'un outil de suivi et de contrôle des processus, qui permet d'optimiser davantage les paramètres des processus. La chambre de procédés et l'unité source peuvent être facilement séparés et remplacés grâce à la conception innovante de VP 2400HW. Cette conception assure également une meilleure sécurité en évitant toute contamination potentielle entre la chambre et la source. VP 2400 HW est un modèle avancé de dépôt MOCVD, offrant des rendements de production améliorés, un revêtement uniforme et des capacités d'optimisation des procédés. C'est le choix idéal pour les fabricants qui exigent des rendements de production améliorés et les niveaux de qualité les plus élevés dans la production d'oxydes métalliques, de silicium et de couches de nitrure.
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