Occasion AIXTRON VP508GFR #9115997 à vendre en France
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Vendu
ID: 9115997
SiC CVD Reactor
Includes:
Spare parts
Graphite kit parts
Full OEM documentation
2001 vintage.
AIXTRON VP508GFR est un réacteur GaN sur film d'AIXTRON. Il est capable de créer des couches de GaN semi-polaires et non polaires sans défaut et à haut rendement sur une variété de substrats. Le réacteur utilise le plasma à haute fréquence de résonance électron-cyclotron (ECR) pour produire des couches épitaxiales de GaN de haute qualité sur des substrats de 4 pouces, 6 pouces ou 8 pouces d'InP, Si ou GaAs. Le réacteur comporte également un étage chauffé capable d'atteindre des températures allant jusqu'à 1000 ° C et peut être utilisé pour la croissance de structures multicouches ainsi que pour des options de recristallisation. VP508GFR est facile à utiliser, grâce à des composants d'équipement conviviaux contrôlés par logiciel qui facilitent le réglage de divers paramètres de processus. De plus, l'interface graphique intuitive automatise la génération de recettes pour tous les paramètres de processus standard. AIXTRON VP508GFR utilise une chambre de traitement entièrement flanquée qui maximise la capacité de traitement. Un certain nombre de caractéristiques innovantes font du réacteur l'un des plus polyvalents et puissants du genre sur le marché. Il s'agit notamment de deux cellules d'effusion intégrées qui permettent l'utilisation de différents gaz nobles pour différentes étapes de l'épitaxie, d'un champ électrique haute fréquence qui accélère la vitesse de dépôt, et d'un système automatisé de débit de gaz qui assure un contrôle précis et l'uniformité du gaz de procédé. VP508GFR est équipé d'un certain nombre de sous-systèmes de distribution de gaz et de sécurité pour assurer un fonctionnement précis et cohérent. La distribution du gaz est gérée par un régulateur de débit massique en boucle fermée, tandis que la sécurité comprend à la fois des systèmes de refroidissement et de surveillance de la pression qui peuvent arrêter l'unité en cas de problème. Le réacteur est capable de créer des films multicouches GaN sans défaut avec d'excellentes propriétés cristallines et optiques, ainsi que de faibles niveaux d'impuretés. Il peut être utilisé pour créer des LED à haut rendement, non polaires et semi-polaires. AIXTRON VP508GFR est une machine idéale pour la recherche et le développement de produits en raison de sa grande flexibilité et efficacité.
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