Occasion AMAT / APPLIED MATERIAL P5000 #293610477 à vendre en France

The Applied Materials AMAT/APPLIED MATERIAL P5000 Photoresist Reactor est un outil utilisé dans la fabrication de plaquettes semi-conductrices. Il est conçu pour graver les substrats semi-conducteurs et les revêtir de couches photorésistantes. AMAT P5000 est un outil de procédé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD), utilisé dans la production de circuits intégrés et d'autres dispositifs microélectroniques. LE MATÉRIEL APPLIQUÉ P5000 est composé d'une chambre extérieure, de la chambre de procédés, d'un système de distribution de gaz, d'une unité de contrôle et d'une source de vide, qui sont tous enfermés dans la chambre. La chambre extérieure est conçue pour être hermétiquement fermée, ce qui permet de contrôler la température, le gaz et la pression. La chambre de procédé est construite avec une chambre en acier inoxydable et un corps en quartz. Le quartz permet de s'assurer que la chaleur nécessaire est également résistante à la chaleur tout au long du processus. Le système de distribution de gaz se compose de deux composants principaux, un gaz porteur et un gaz réactif. Le gaz vecteur est utilisé pour dissoudre le gaz réactif afin de le déposer dans l'enceinte. Le gaz réactif est ensuite déposé dans l'enceinte, formant la couche de résine photosensible sur le substrat. L'unité de contrôle est responsable du contrôle de la pression, du débit de gaz, de la température et du temps. La Source de Vide est nécessaire pour évacuer la Chambre de Process. Il est utilisé pour créer un vide afin d'établir les conditions nécessaires au processus de dépôt. Il peut être ajusté à un vide spécifique, allant typiquement de 10-1 mbar. Pour initier le processus de dépôt, le substrat est transféré dans la chambre de procédé et un vide est alors créé. Le gaz réactif est ensuite dissous dans le gaz vecteur et injecté dans la chambre de procédés. La température, le débit de gaz, la pression et le temps sont alors ajustés et le processus est lancé. Au fur et à mesure du procédé de dépôt, une couche de photorésist est formée sur le substrat, créant les caractéristiques souhaitées. Les matériaux appliqués P5000 répondent aux besoins et aux exigences de l'industrie des semi-conducteurs. Il s'agit d'un progrès technologique dans le processus de dépôt de résines photosensibles et apporte plus de précision et de précision. AMAT/APPLIED MATERIAL P5000 est polyvalent et facile à utiliser, ce qui lui permet d'être utilisé dans diverses situations et d'accomplir un large éventail de tâches.