Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-00745 #293654975 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-00745 est un réacteur semi-conducteur conçu pour la production rapide et à haut débit de dispositifs microélectroniques. Il est capable d'accélérer les processus de diffusion et de recuit par chauffage au faisceau laser. Le réacteur est composé de plusieurs composants principaux : un gros ensemble de tuyère refroidi à l'eau sur un plateau tournant, une chambre de réacteur à quartz, un porte-substrat fixe, un générateur RF, un mécanisme de positionnement et d'entraînement, et une enceinte de commande. L'ensemble de la buse est la partie la plus importante du réacteur AMAT 0010-00745 et contient un coeur refroidi à l'eau entouré d'un manchon de buse fixe. Le noyau comporte une chemise à base d'indium, deux ou quatre anneaux de flottation, un orifice d'échappement et un orifice d'entrée. Il est utilisé pour diriger le faisceau laser vers le substrat de la chambre du réacteur. La chambre du réacteur à quartz est une chambre chauffée, scellée sous vide, qui abrite le porte-substrat et maintient la cible du faisceau laser. Le porte-substrat est réalisé en une plaque de cuivre avec un élément chauffant. La plaque maintient la plaquette pendant son traitement à l'intérieur de la chambre. Un générateur RF est utilisé pour créer un champ haute fréquence au sein du réacteur pour réguler le chauffage du substrat. Le mécanisme de positionnement et d'entraînement est chargé de positionner avec précision le substrat et la buse à l'intérieur de la chambre. L'enceinte de commande abrite le module de commande du réacteur, qui surveille le fonctionnement des différents composants et ajuste les paramètres du procédé en conséquence. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur 0010-00745 est conçu pour des procédés de diffusion et de recuit très efficaces. Sa buse refroidie à l'eau permet une répartition homogène de la puissance du faisceau laser sur le substrat, ce qui se traduit par des dispositifs électroniques de haute qualité et un temps de traitement réduit. De plus, le générateur RF augmente l'homogénéité des températures à l'intérieur de la chambre du réacteur, permet un contrôle précis du procédé et élimine la nécessité de longs temps de recuit. De plus, le mécanisme de positionnement et d'entraînement est capable de positionner et de déplacer avec précision les substrats dans la chambre, ce qui le rend adapté à une large gamme de substrats. Enfin, le module de contrôle assure un processus cohérent et optimisé en surveillant les différents composants. Dans l'ensemble, le réacteur 0010-00745 est un outil semi-conducteur avancé et efficace qui peut être utilisé pour la production de dispositifs microélectroniques. En tirant parti de ses caractéristiques avancées, telles que le positionnement précis du substrat, l'uniformité accrue des températures, la distribution homogène du faisceau laser et le haut débit, les fabricants peuvent produire des dispositifs de haute qualité.