Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-01286 #9311052 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-01286 est un outil de dépôt hybride puisé/plasma emballé de puissance, spécialement conçu pour les applications de dépôt de film de grille-diélectrique à semi-conducteur et de dispositif à mémoire. C'est un équipement de qualité de production très fiable et efficace qui a été développé avec la technologie de pulvérisation magnétron à courant continu pulsé la plus avancée disponible. Le réacteur AMAT 0010-01286 comprend une chambre en acier inoxydable de 20 pouces avec un système de pulvérisation de flamme inoxydable en forme de cloche, équipé de capacités avancées de chauffage, de refroidissement et de contrôle de l'atmosphère. L'unité fournit également une fonction innovante de dépôt par couche adaptative (DDA) pour le dépôt simultané de couches minces conformes et de canaux minces. Le réacteur dispose également d'une machine de contrôle à base de PLC Allen Bradley pour garantir des résultats de dépôt fiables, reproductibles et reproductibles. Par ailleurs, le réacteur 0010-01286 des matériaux appliqués comprend un générateur de source de substrat qui peut précisément former et contrôler la température de dépôt de substrat requise. L'outil comprend également une fonction sophistiquée Sputter Azimuth Control qui peut ajuster la pression de pulvérisation et l'angle de la fenêtre de processus. De plus, l'actif 0010-01286 est équipé d'une technologie avancée de gravure par plasma à résonance cyclotron électronique (ECR) pour un traitement de surface supérieur des matériaux. La chambre est activement refroidie par un modèle de chauffage/refroidissement à l'azote et à l'hélium, qui assure une température uniforme et une excellente gestion thermique. L'équipement de refroidissement fonctionne en prélevant dans le procédé des gaz de la source de substrat et de la chambre de propulsion et en les faisant circuler autour des parois de la chambre. Ceci garantit que le matériau traité n'est pas affecté par des fluctuations thermiques inhérentes au traitement semi-conducteur classique. Le système AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-01286 dispose également de capacités fiables de surveillance des processus. Il est équipé d'un module de mesure des particules in situ en temps réel pour surveiller avec précision le processus et maintenir un contrôle étroit de la chambre à plasma. De plus, l'unité offre des modules de contrôle des points d'extrémité non destructifs peu envahissants pour mesurer avec précision le point d'extrémité du processus de dépôt. La machine AMAT 0010-01286 fournit un processus cohérent et répétable, qui est essentiel pour la fabrication de diélectrique de porte TiN et de dispositifs mémoire. MATÉRIAUX APPLIQUÉS L'outil de réacteur 0010-01286 offre une solution efficace, fiable et économe en énergie qui répond aux normes les plus élevées de la technologie des semi-conducteurs d'aujourd'hui.