Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-03254 #293596912 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03254 Le réacteur est un réacteur de gravure à usage général conçu pour le dépôt chimique en phase vapeur enrichi par plasma (PECVD). Il est conçu pour une production à moyenne et grande échelle, avec une taille de chambre de 30 « x 30 » (76,2 cm x 76,2 cm). Le réacteur utilise une chambre cylindrique à paroi froide, composée d'acier inoxydable et d'un revêtement en graphite. Le revêtement en graphite permet de minimiser la contrainte thermique de la chambre en assurant une dispersion thermique tout en permettant la réparation des surfaces appauvries à l'intérieur de la chambre. La chambre comprend également une plate-forme pyrolytique de nitrure de bore (PBN) et un capot d'anode. Le réacteur est équipé d'une seule source de puissance VHF RF de fréquence 13,56 MHz, avec une gamme de puissance de 250-500 Watts. L'équipement est conçu pour être utilisé dans des environnements de salle blanche et est livré avec une fenêtre de port de vue sous vide et des connecteurs E/S pour la communication à distance. Le réacteur dispose également de programmabilité, permettant les préréglements de recettes, et la sélection de programmes jusqu'à 50 étapes pour un contrôle et une flexibilité accrus. Les préréglements de recette fournissent une gamme de paramètres de processus, tels que les flux de gaz, les mélanges de gaz, la pression, la puissance RF, le temps d'exposition, la polarisation et la température. Le système est équipé d'un mode de surpression et de maintien de la pression, ce qui contribue à réduire la contamination des particules en permettant à l'utilisateur d'évacuer la chambre rapidement. L'unité est également livrée avec une machine de contrôle de température pour la plate-forme PBN, qui fournit un contrôle supplémentaire sur les vitesses de dépôt et les configurations. Le réacteur offre une excellente homogénéité et est capable d'obtenir une répétabilité des étapes du procédé de 0,5 %. Il a également une uniformité de température allant jusqu'à 0,2 pour cent et est capable de fournir une stabilité de quartz de 0,2 pour cent/0,5 pour cent à partir des délais et micro-feedback. Dans l'ensemble, le réacteur AMAT 0010-03254 fournit une solution fiable et efficace pour les applications avancées de PECVD.