Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-03254 #293632752 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03254 est un type de réacteur pour la fabrication de semi-conducteurs, et est utilisé pour déposer des couches minces sur une surface de plaquette. Le réacteur est conçu pour être extrêmement efficace, mais fiable et rentable, fournissant une production cohérente de couches minces de haute qualité. Ce réacteur comporte l'utilisation de dépôt physique en phase vapeur contrôlée (PVD). Le PVD est un procédé de dépôt en couches minces qui a lieu dans un environnement connu sous le nom de chambre de dépôt. A l'intérieur de cette chambre, du matériau vaporisé est introduit puis déposé sur un substrat prédéfini. Ce substrat est le plus souvent une plaquette semi-conductrice. Dans le cas du PVD semi-conducteur, le gaz introduit dans la chambre contient des molécules précurseurs qui sont ensuite décomposées en atomes et molécules plus réactifs, qui sont ensuite déposées sur la surface de la plaquette de manière directionnelle et conforme. Le réacteur AMAT 0010-03254 utilise des chambres PVD traditionnelles de pointe qui ont été optimisées pour un rendement élevé. En tant que tel, le réacteur est capable de traiter des volumes élevés de substrats, avec un temps de cycle minimal et un débit de dépôt en couches minces. Dans sa conception de base, le réacteur est composé d'un certain nombre de composants. Ces composants comprennent les conduites d'alimentation en gaz inerte, le porte-cible, l'ensemble source de pulvérisation, l'alimentation RF ou DC, l'ensemble anode, le système à vide, ainsi que la chambre elle-même. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur 0010-03254 est équipé de plusieurs autres caractéristiques. Par exemple, il peut être programmé pour passer automatiquement par différentes vitesses d'introduction de gaz, et a à la fois un fond lumineux et un moniteur de particules. Cela permet aux utilisateurs d'observer et de suivre l'avancement des processus manuellement ou automatiquement. Il fonctionne en pompant les précurseurs et les gaz de fond inertes dans la chambre, où ils réagissent et se déposent rapidement sur la surface de la plaquette. La température et la pression du procédé peuvent être contrôlées avec précision, ce qui permet le dépôt de couches minces de qualité avec une variété de matériaux. En fonction du matériau utilisé et de l'application, différentes géométries de chambre peuvent être utilisées, telles que face ouverte, cloche, ou d'autres types. 0010-03254 est un moyen très fiable et rentable de fabriquer des semi-conducteurs. Il peut produire des films minces d'épaisseur uniforme, avec une excellente couverture d'étape. En conséquence, il est devenu un atout important dans le flux de fabrication de semi-conducteurs.