Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-03254 #9004838 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03254 est un réacteur de traitement de wafer complet spécialement conçu pour les applications de PECVD et d'oxydation dans la fabrication de semi-conducteurs et de MEMS. Le réacteur est parfaitement adapté pour le dépôt de couches diélectriques basses et de films de protection, ainsi que pour la formation de revêtements antireflet. AMAT 0010-03254 dispose d'une chambre d'échantillonnage chauffée et rotative d'un diamètre de 200 mm pouvant accueillir jusqu'à quinze plaquettes. Une conception avancée à enveloppe unique assure une répartition uniforme des gaz réactifs et un dépôt uniforme des parois latérales. La tension de polarisation du substrat est réglable de 0 à 700V, avec une fréquence de polarisation réglable. Le réacteur est équipé d'un obturateur mécanique actif pour contrôler la concentration, la température et la pression du réactif afin d'obtenir des résultats optimaux. Ce système est également équipé d'une unité avancée de contrôle des procédés pour optimiser la reproductibilité et la répétabilité des dépôts. En outre, APPLIED MATERIALS 0010-03254 dispose d'une machine d'évacuation avancée pour une purge rapide et efficace de la chambre avec de l'azote ou de l'argon. Le réacteur est conçu pour s'intégrer facilement dans les systèmes de fabrication existants ou nouveaux. La conception modulaire rend l'installation et la mise à niveau simples. La conception permet à l'opérateur de mettre en place et de modifier rapidement des recettes de processus, ainsi que de réaliser des diagnostics in situ. En général, le réacteur 0010-03254 est un réacteur d'oxydation PECVD de haute précision conçu pour fournir des résultats de dépôt de haute qualité. Sa conception permet la formation rapide et efficace de couches diélectriques basses, de films de protection et de revêtements antireflet. Sa conception modulaire permet une intégration facile dans les systèmes de fabrication existants, et son outil avancé de contrôle des processus assure la répétabilité et la reproductibilité du dépôt. Ce réacteur robuste, fiable et polyvalent est le choix idéal pour la fabrication de semi-conducteurs et de MEMS.