Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-03254 #9069114 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03254, ou réacteur AMAT 0010-03254, est un outil utilisé principalement dans la fabrication d'applications de traitement de plaquettes semi-conductrices. MATÉRIAUX APPLIQUÉS 0010-03254 réacteur est un équipement de pointe avec plusieurs composants installés pour les chambres d'ultra-haute précision, y compris UP3000 chambre de dépôt de silicium polycristallin, voir 5000 e-canon excitation et le four à vide batch 9400. Ce système polyvalent permet différents types de processus allant des technologies LPCVD et de traitement thermique rapide, aux dépôts pulvérisés pour diélectriques inter-couches. La UP3000 Chambre de dépôt en silicium polycristallin est un navire de traitement à grande échelle qui peut être configuré pour plusieurs types de processus. Il dispose d'une unité brevetée de distribution de gaz à double catalyseur, permettant un contrôle précis des taux de dépôt. Le View 5000 E-gun Excitation Machine est un outil d'excitation électronique impulsionnelle de grande puissance qui est utilisé pour améliorer l'efficacité du processus de dépôt. Il a une puissance maximale de 160kV et une longueur d'impulsion de 1 microseconde. En outre, il est équipé d'une buse à jet magnétique qui permet un contrôle précis du processus de dépôt. Enfin, le four à vide Batch 9400 est une chambre de procédé multi-étapes qui peut effectuer une variété d'applications à haute température telles que le recuit thermique rapide et l'élimination de l'oxyde. Il a une température maximale de 1300 ° C et est équipé de profilage de température en temps réel avec des profils de temps et de température réglables. Dans l'ensemble, le réacteur 0010-03254 est un outil puissant pour l'industrie du traitement des plaquettes semi-conductrices de haute précision. Il offre un contrôle très précis du processus de dépôt, ainsi qu'une gamme polyvalente d'applications. Avec ses différents composants intégrés, il peut fournir des performances et une fiabilité inégalées pour une large gamme de procédés de fabrication de semi-conducteurs.