Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-03254 #9312941 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03254 Le réacteur est un équipement polyvalent de dépôt en couches minces conçu pour des expériences de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et de dépôt physique en phase vapeur (PVD). La chambre du réacteur est construite en acier inoxydable, avec un support de substrat en quartz et un suscepteur résistif. Il est capable d'ultralow-pression à haut traitement sous vide avec un fonctionnement jusqu'à 1000˚C. AMAT 0010-03254 Le réacteur est une source fiable de dépôt sur plusieurs types de substrats avec une homogénéité de température précise et un système de mélange de gaz de procédé. La conception unique de la tête de douche et la longueur de la chambre du réacteur permettent un dépôt de film uniforme sur les substrats même dans des conditions de croissance élevée et de vide élevé. MATÉRIAUX APPLIQUÉS 0010-03254 Le réacteur dispose d'une zone de dépôt pleine face et d'une porte de levage centrale avec une unité de levage manuelle ou motorisée pour le chargement et le déchargement d'échantillons de substrat. Le couvercle de la machine peut être ouvert sur toute la face de la tête de douche supérieure pour le nettoyage du substrat ou l'ablation laser. 0010-03254 Le réacteur assure un contrôle précis des gaz de procédé avec un contrôle précis du mélange et du débit massique. Les procédés à double zone permettent une température de chambre de procédé aussi basse que 25˚C tout en déposant des films. La température au centre du substrat peut être régulée avec précision sur une plage allant de 25˚C à 1000 ° C, avec une uniformité de température précise ± 2 ° C AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03254 Le réacteur permet le remplissage automatisé des matériaux de source et l'échange de substrat, éliminant l'intervention manuelle dans un flux de production. Un outil avancé de distribution de gaz assure un contrôle précis de la pression résiduelle et du débit des fluides de procédé. L'actif est conçu pour fonctionner sur l'acétylène, le silane, l'ammoniac et d'autres gaz de procédé. Le pilote unique et les soupapes principales permettent un contrôle précis du débit. Les caractéristiques avancées du réacteur AMAT 0010-03254 fournissent un dépôt précis en couches minces pour une large gamme d'applications telles que le CVD en couches minces, le PVD, l'ALD et le dépôt de pulvérisateurs. La conception assure un dépôt de film uniforme sur des substrats de grande surface avec une contamination croisée minimale et des dommages au substrat. En outre, l'augmentation des taux de dépôt permet de réaliser des économies en réduisant les temps de cycle et en améliorant la productivité.