Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-03500 #293670004 à vendre en France

ID: 293670004
E-Chain assembly for Mirra Titan-I / Titan-II.
AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03500 est un réacteur utilisé dans le procédé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Il s'agit d'un équipement spécialisé utilisé pour appliquer des couches minces de métaux, de composés semi-conducteurs, diélectriques et organiques sur une variété de substrats. Le réacteur CVD utilise des procédés thermiques et chimiques pour vaporiser le matériau puis le déposer sur le substrat. Ce réacteur CVD dispose d'une plaque chauffante refroidie à l'air qui est conçue pour une utilisation en configuration horizontale ou verticale. La plaque chaude comporte 3 zones permettant un contrôle précis de la température du substrat et est destinée à permettre un dépôt uniforme sur l'ensemble du substrat. Le réacteur dispose également d'un réchauffeur à quartz multi-zones qui est conçu pour chauffer uniformément, avec une plage de température de la température ambiante à 1000 ° C et une tolérance ± 1 %. Le réacteur est conçu pour fonctionner avec un large éventail de matériaux tels que le silicium, l'aluminium, l'arséniure de gallium, le phosphure d'indium, le carbone et les chimies organiques métalliques. Le réacteur est également conçu pour travailler avec une variété de gaz vecteurs, dont l'azote, l'argon et l'hydrogène pour les processus d'oxydation. Le réacteur CVD AMAT 0010-03500 peut être utilisé pour diverses applications, y compris le traitement de couches épaisses, le RTP (Rapid Thermal Processing) pour la fabrication de semi-conducteurs, le dépôt de couches minces et le traitement de couches compatibles MEMS. La grande surface chauffée et les débits de gaz réglables rendent ce réacteur adapté à des applications à grande échelle. Le réacteur est également équipé d'un collecteur de gaz qui permet un contrôle précis des gaz multiples lors des processus CVD. Les conduites de gaz sont équipées de régulateurs de débit massique qui sont utilisés pour contrôler avec précision le débit de gaz vers le réacteur. Ceci assure des réactions CVD reproductibles pour une large gamme de types de substrat et de produits. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur CVD 0010-03500 est conçu avec sûreté et commodité. Avec son module PMM (Power Monitoring Module), il offre une surveillance de la puissance pour les éléments de tube à plaque chaude et à quartz ainsi que des dispositifs de sécurité. Le réacteur dispose également d'une gamme de dispositifs de sécurité tels que des capteurs de pression, des interrupteurs de défaut de masse et un entretoisement sous vide. Avec toutes ces caractéristiques, le réacteur CVD 0010-03500 est un équipement fiable, sûr et flexible.
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