Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-03840 #293659921 à vendre en France

ID: 293659921
Heater.
AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03840 est un réacteur à usage général pour le traitement des CVD (dépôts chimiques en phase vapeur) et peut être utilisé dans diverses applications de fabrication de dispositifs semi-conducteurs. La chambre à vide est construite en acier inoxydable et mesure 48 pouces de diamètre et 48 pouces de longueur. Il est capable de fonctionner à des pressions allant jusqu'à 400-500 mbar et des températures allant jusqu'à 400 ° C Le plateau de substrat interne mesure 24 pouces de diamètre et peut accueillir quatre plaquettes de 200mm. Le réacteur est équipé d'une alimentation RF et d'équipements UPW (eau ultra-pure) utilisés pour maintenir un environnement de processus propre et sec. Le système peut être équipé d'un équipement supplémentaire en option pour fournir des fonctions auxiliaires supplémentaires, telles que l'ionisation, la gravure plasma et le chauffage du substrat. Le réacteur CVD AMAT 0010-03840 présente une grande homogénéité de température (< ± 3 ° C) sur la surface de la plaquette et est capable d'obtenir un taux élevé d'uniformité de dépôt du film (< ± 2 %). Il est également équipé d'une unité d'arrêt des gaz de processus d'urgence et d'une chambre de surveillance de la pression, de la température et de la décompression d'urgence. La conception du réacteur est compacte et économique, ce qui le rend idéal pour les applications de recherche et de prototypage. Le générateur de puissance RF offre un contrôle élevé et assure un contrôle élevé des paramètres de dépôt de chaque couche. L'outil est hautement automatisé et nécessite un minimum de formation du personnel et de temps pour se lever et fonctionner. En outre, l'actif est extrêmement fiable et fiable avec des exigences minimales de temps d'arrêt et de service. En conclusion, le réacteur CVD APPLIED MATERIALS 0010-03840 est un modèle CVD fiable et performant qui peut être utilisé pour fabriquer une variété de dispositifs semi-conducteurs. Sa conception compacte et économique en fait un excellent choix pour les applications où le coût et l'espace sont préoccupants. La grande homogénéité de la température, de l'épaisseur du film et de la vitesse de dépôt, ainsi que sa sécurité, sa fiabilité et sa facilité d'utilisation contribuent à faire de l'équipement un excellent choix pour de nombreuses applications.
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