Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-03843 #9268586 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03843 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) leader dans l'industrie utilisé dans la production de semi-conducteurs et d'autres couches minces. Il est actuellement utilisé dans la fabrication de divers composants de circuits intégrés (IC), transistors à couches minces (TFT) et composants de microscopie. Ce réacteur est conçu avec une série d'éléments chauffants, une chambre de substrat et des gaz de traitement pour former des couches minces à la surface des substrats. Le support de substrat est conçu de manière à maximiser l'homogénéité et la qualité du film obtenu. Les deux éléments les plus importants de ce réacteur CVD sont les éléments chauffants et les gaz de traitement. Les éléments chauffants sont composés de tungstène, tantale, molybdène, et d'autres métaux afin d'atteindre les bons paramètres pour le traitement. La surface des éléments chauffants est en céramique, ce qui contribue à assurer l'uniformité et la stabilité des éléments chauffants. Les gaz de traitement sont utilisés pour former le film désiré sur le substrat. Les gaz les plus couramment utilisés sont le silane, le disilane et l'azote ou le méthane dopés au silane. Un certain nombre de paramètres tels que le débit de gaz, la pression, la température et le temps d'exposition sont également ajustés pour s'assurer que le film de meilleure qualité peut être créé. Afin de garantir la bonne qualité du film obtenu, le réacteur CVD doit également être correctement calibré. Pour ce faire, on évalue l'homogénéité, l'épaisseur et la composition du film et on ajuste éventuellement les paramètres. Par exemple, si le film n'est pas uniforme, il peut être nécessaire de régler la pression, la température et le débit des gaz. Il en va de même pour l'épaisseur et la composition du film ; tout écart en ce qui concerne l'épaisseur ou la composition souhaitée nécessitera des modifications des paramètres. Dans l'ensemble, AMAT 0010-03843 est un réacteur CVD fiable et polyvalent qui peut produire des films minces avec des paramètres précis. Cela permet à l'utilisateur de créer les films exacts dont il a besoin pour mener à bien ses projets. Avec ses performances fiables et ses paramètres précis, ce réacteur CVD est une excellente option pour tout utilisateur cherchant à créer des films minces avec la plus grande précision.