Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-03843 #9269049 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03843 est un réacteur de dépôt avancé qui a été conçu pour fournir des dépôts de matériaux de haute qualité. Il est largement utilisé dans les domaines de la fabrication avancée de semi-conducteurs, l'emballage avancé, et MEMS. Ce réacteur de nouvelle génération est une source de dépôt de précision leader dans l'industrie pour des matériaux tels que le poly-silicium, le tungstène, l'aluminium, le carbone, etc. AMAT 0010-03843 est construit avec une chambre en quartz, une cavité en céramique et une fenêtre en quartz. La chambre à quartz est hermétiquement étanche et constitue le moyeu principal du processus de dépôt. La cavité céramique contient un canon à faisceau d'électrons à haute énergie et un élément chauffant à haute température pour créer un environnement optimal pour le processus de dépôt. La fenêtre à quartz est un avantage pour le réacteur car la présence de la fenêtre à quartz réduit le besoin de pompes à vide et de lignes complexes. Le canon à faisceau d'électrons de haute énergie est utilisé pour injecter des particules de haute densité dans la chambre du réacteur, permettant la cristallisation et la création d'un revêtement homogène d'un matériau particulier, tel qu'un nitrure de titane ou de tantale. De plus, le canon à faisceau d'électrons a la capacité de générer des obturations spatiales avec un petit point de dépôt de matière, permettant des placements de petites à moyennes caractéristiques sur une variété de substrats. La zone chauffée permet de déposer un revêtement homogène d'un matériau choisi avec un meilleur contrôle d'épaisseur par rapport à l'utilisation des seules injections de faisceau d'électrons. De plus, APPLIED MATERIALS 0010-03843 a l'avantage d'un système d'auto-rafraîchissement actif qui effectue des cycles à travers des paramètres de dépôt spécifiques afin de répartir uniformément un matériau en accréditant le matériau de manière uniforme. Avec cette fonction d'auto-rafraîchissement, les paramètres des réactions peuvent être réglés sur un mode statique pour des revêtements cohérents d'épaisseur uniforme. 0010-03843 comprend également une conception à double chambre avec des chambres internes et externes scellées indépendamment, offrant un avantage au dépôt qui nécessite à la fois des variations de température et de pression. En isolant la chambre chauffée du substrat, les opérateurs sont en mesure de contenir leur travail, de fixer indépendamment les températures et les pressions, et de gagner du temps entre les étapes du processus. Dans l'ensemble, AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03843 est un réacteur de dépôt avancé qui offre des performances et une fiabilité de haut niveau avec un large éventail d'avantages. La combinaison de la chambre à quartz, de la cavité céramique, du canon à faisceau d'électrons à haute énergie et de la conception à double chambre permet un dépôt fiable et reproductible de métaux et de composés sur une variété de substrats.