Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-03843R #9270795 à vendre en France

ID: 9270795
Taille de la plaquette: 8"
DCxZ Ceramic heater, 8" Resistance: 4.3 ohm.
AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03843R est un réacteur développé pour la fabrication de semi-conducteurs et les applications de dépôt. Le réacteur est conçu pour fournir des procédés de gravure et de dépôt de haute qualité nécessaires à la production de dispositifs semi-conducteurs avancés. Il utilise une combinaison de vide à haute puissance et une gamme de fonctions d'injection de gaz pour contrôler avec précision les paramètres de gravure et de dépôt. Le réacteur AMAT 0010-03843R est construit à partir d'une chambre à vide en acier inoxydable, visible à travers une fenêtre d'observation. La chambre est équipée d'un certain nombre de ports pour les connexions d'étanchéité, de gaz et de pompe. L'intérieur du réacteur est également équipé de deux boucliers Planar, situés en haut et en bas. Ces boucliers sont conçus pour empêcher tout déversement et toute source de particules d'entrer dans le réacteur pendant le processus. Le réacteur APPLIED MATERIALS 0010-03843R est alimenté par une série d'alimentations externes à haute tension. Ces alimentations alimentent le contrôleur de chambre du réacteur, qui fait varier la tension entre les deux Boucliers Planaires en fonction des besoins de procédé désirés. Un ensemble de soupapes de commutation isolées de forte puissance permet au réacteur d'injecter des gaz d'échappement et de traiter dans la chambre. En outre, le réacteur est conçu pour cycler toutes les particules d'échappement et de déchets hors de la chambre par une gamme de raccords d'aération et d'échappement. 0010-03843R réacteur est équipé d'une gamme de caractéristiques qui lui permettent de fonctionner avec un haut niveau de précision et d'efficacité. Plus particulièrement, il dispose d'un équipement dynamique de détection de point d'extrémité capable de détecter avec précision une gravure partielle ou complète dans des couches de processus. Ce système permet également au réacteur de détecter la présence de particules restantes dans l'enceinte. De plus, son unité de commande met en oeuvre un ensemble d'algorithmes de rétroaction et d'avance non linéaires, qui permettent au réacteur d'optimiser ses performances de procédé en fonction de paramètres tels que la température, la pression et le débit de gaz. En conclusion, AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03843R est un réacteur de pointe de haute technologie conçu pour des applications allant de la production de dispositifs semi-conducteurs avancés à divers procédés de gravure et de dépôt. Sa conception robuste, sa machine de contrôle précise et son outil de détection dynamique des points d'extrémité lui permettent d'obtenir des résultats de haute qualité avec un haut niveau d'efficacité et de précision.
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