Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-09001 #293658034 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09001 est un outil réactionnel très avancé pour l'industrie des semi-conducteurs. Le réacteur utilise un procédé de dépôt chimique en phase vapeur pour déposer une variété de matériaux, tels que le silicium, sur un substrat avec un contrôle précis. Cette technologie est essentielle dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, tels que les circuits intégrés et autres composants électroniques. L'équipement du réacteur AMAT 0010-09001 comprend à la fois un boîtier et un ensemble de chambre. Le boîtier contient les composants fonctionnels du système, tels que l'alimentation électrique, les contrôleurs et diverses soupapes et pompes. L'ensemble de la chambre est le lieu où se produit le processus de production proprement dit. La chambre contient les sources de gaz, les systèmes de régulation de température et la source de dépôt. Le dépôt chimique en phase vapeur a lieu à l'intérieur de la chambre. Les sources gazeuses délivrent les gaz dans la chambre et sont ensuite mélangées dans des rapports précis pour créer la réaction souhaitée. Une fois mélangés, les gaz sont chauffés et agités, les brisant en particules plus petites qui peuvent être déposées sur le substrat. Beaucoup de gaz de dépôt sont chauffés au-dessus de la température de surface du substrat. Cela permet un contrôle beaucoup plus important des caractéristiques de dépôt du matériau, telles que la profondeur de jonction. MATÉRIAUX APPLIQUÉS L'unité réacteur 0010-09001 utilise deux composants principaux de régulation de la température : un chauffe-source de gaz et un chauffe-source de gravure. Le chauffe-gaz chauffe les sources de gaz avant leur introduction dans la chambre. Il permet également de contrôler avec précision les mélanges gazeux. Le réchauffeur source de gravure chauffe la surface du substrat avant le dépôt afin de réduire le risque de contamination. La machine utilise également plusieurs processus spécialisés pour garantir des résultats de qualité et des résultats précis. Par exemple, les procédés de gravure assistée par faisceau d'ions contribuent à améliorer la qualité du matériau de dépôt et à réduire les dommages causés par les gravures. Le processus de dépôt plasmatique aide à réduire les défauts des particules au cours du processus. Dans l'ensemble, l'outil réacteur 0010-09001 est un outil supérieur pour les fabricants de semi-conducteurs pour déposer avec précision les matériaux dont ils ont besoin avec une grande fiabilité et répétabilité. Il offre des résultats de haute précision et cohérents, ce qui en fait un excellent choix pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs.