Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-09416 #152193 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09416 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à plasma développé par AMAT, Inc. et largement utilisé pour la fabrication de semi-conducteurs, de nanostructures et de dispositifs optiques. Les principaux composants du réacteur AMAT 0010-09416 comprennent une chambre interne, une source de plasma, un échappement, un équipement sous vide et des systèmes de contrôle de variables liées au processus telles que le débit de gaz, la pression et la température. La chambre intérieure de MATÉRIAUX APPLIQUÉS 0010-09416 est de forme cylindrique et construite en aluminium et en acier inoxydable. Il présente un fond plat qui abrite le substrat sur lequel le film est déposé. Le substrat peut être soit une plaquette Si, soit un substrat en verre ou en quartz. La chambre est sous vide élevé (typiquement de l'ordre de 10-3 Torr) lors d'un processus de dépôt. Un flux généralisé de gaz de procédé pénètre dans la chambre par une boîte à gaz au centre de la chambre, située directement au-dessus du substrat. Le débit est régulé par le système de contrôle et des gaz spécifiques peuvent être ajoutés ou évacués au cours du processus. Le plasma utilisé dans 0010-09416 est un plasma alternatif non thermique couplé capacitivement. Celle-ci est générée par une source d'énergie RF qui sert d'antenne à la source de plasma en forme de dôme située au centre de la chambre. La source d'énergie RF est conçue pour fournir une densité de puissance spécifique en fonction de la température du procédé et des exigences du film. Le plasma est utilisé pour alimenter et activer chimiquement les réactifs pour former le matériau désiré. L'orifice d'échappement élimine les sous-produits de réaction de la chambre et est typiquement relié à une unité de vide. Les systèmes de contrôle AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09416 permettent une manipulation exacte des paramètres du processus, tels que la pression, la température, les rapports réactifs et les débits de gaz. Pour ce faire, on utilise une combinaison de contrôleurs mécaniques et/ou numériques, qui sont tous deux entièrement programmables. De plus, la machine de contrôle peut être utilisée pour analyser les données du processus et apporter automatiquement des corrections qui améliorent l'uniformité et la répétabilité du processus. Globalement, AMAT 0010-09416 est un réacteur fiable et efficace qui est largement utilisé dans un certain nombre d'applications impliquant la production de semi-conducteurs, de nanostructures et de dispositifs optiques. Ses capacités avancées, y compris sa capacité à gérer avec précision les paramètres des processus et sa capacité à analyser les données, en font un outil inestimable pour une variété de processus de fabrication.