Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-09416 #293824898 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09416 est un réacteur haute performance conçu pour la fabrication de matériaux semi-conducteurs avancés. Ce réacteur peut être utilisé pour produire une gamme de matériaux semi-conducteurs à la fois organiques et inorganiques. Il s'agit d'un réacteur monobloc de type production capable de fonctionner à des pressions allant jusqu'à 300 mbar et des températures comprises entre la température ambiante et 1500 ° C dans une atmosphère contrôlable. Le réacteur est constitué d'un tube en quartz effilé avec sortie étanche sous vide, d'un réchauffeur à échantillon réglable, d'une isolation céramique, de brides en acier inoxydable, d'un régulateur de débit massique, d'un orifice d'entrée et d'un orifice de sortie. Le tube à quartz est chauffé à l'aide de lampes infrarouges. Pendant le fonctionnement, un échantillon ou « plaquette » est placé sur le réchauffeur à échantillon chauffé et est exposé à une gamme de températures et de pressions qui peuvent être contrôlées par les ordinateurs du réacteur. La surface de l'échantillon peut être modifiée et gravée par divers procédés, dont le dépôt physique en phase vapeur (PVD) et le dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Les autres capacités de ce réacteur comprennent une source de gaz en mélange oxygène/azote/argon, avec un débit de gaz réglable ; un système à vide ultra-élevé avec une pression de base de 10-6 Torr ; un système de rampe de température capable de chauffer rapidement le substrat jusqu'à 1500 ° C ; et une chambre de recuit à très haute température. En outre, les paramètres de procédé du réacteur peuvent être ajustés pour des besoins spécifiques de plaquettes. Le réacteur AMAT 0010-09416 peut être utilisé pour synthétiser divers composés, y compris des matériaux semi-conducteurs tels que l'arséniure de gallium, le carbure de silicium et le nitrure de germanium. Ce réacteur est très efficace et peut être utilisé pour obtenir des rendements élevés en produit. Il est également très polyvalent, car ses paramètres peuvent être personnalisés pour répondre à des exigences spécifiques. Avec sa grande facilité d'utilisation, il est un réacteur idéal pour la fabrication de matériaux semi-conducteurs avancés.