Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-09416 #9026398 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09416 est un équipement de pointe conçu pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Ce réacteur fournit les fonctions et les paramètres nécessaires pour créer des plaquettes et des dispositifs sans défaut de haute qualité. Le réacteur contient un certain nombre de composants avancés tels qu'une source de plasma à couplage inductif (PIC) et des systèmes de recuit thermique rapide (RTA). La source du PIC contenue dans le réacteur permet des procédés avancés tels que la gravure, le dépôt de silicium polycristallin et l'implantation de dopants. Cette source privilégiée d'énergie électrique permet des traitements de surface sur différents matériaux de substrat. Ces traitements de surface sont inestimables dans le procédé de fabrication des semi-conducteurs. La source du PIC est également capable de produire des espèces réactives et inertes à des fins de gravure. Cela permet d'affiner le processus de fabrication du dispositif. En outre, la source du PIC et son alimentation électrique sont bien protégées grâce à des systèmes de refroidissement fonctionnant à l'IA, assurant une température constante dans tout le réacteur. L'équipement RTA est une caractéristique importante du réacteur AMAT 0010-09416. Ce système offre des budgets thermiques élevés et faibles, ce qui signifie qu'à mesure que les puces se rétrécissent et que la complexité des processus augmente, l'unité RTA peut encore traiter une grande variété d'applications et de fonctions. La machine RTA offre également des fonctionnalités avancées, y compris le chauffage récupérateur, qui permet au réacteur de chauffer la plaquette plus rapidement afin que le processus soit terminé en des temps plus courts. Outre les systèmes ICP source et RTA, le réacteur APPLIED MATERIALS 0010-09416 comporte également un certain nombre d'autres caractéristiques. Ceux-ci comprennent un outil de chauffage et de refroidissement, une chambre de procédé étanche au vide, un atout de livraison de gaz de haute précision, et d'autres composants avancés. En combinaison, toutes ces caractéristiques permettent au réacteur de traiter la croissance épitaxiale, le dépôt de GaAs et plus tout en atteignant des taux de défauts faibles. Cela permet des structures extrêmement précises qui conviennent à une grande variété d'applications individuelles. Enfin, le réacteur est contrôlé par une interface logicielle intuitive et conviviale, assurant un contrôle et une automatisation efficaces des processus. Dans l'ensemble, le réacteur 0010-09416 d'AMAT est un équipement de pointe utilisé dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Le réacteur contient un certain nombre de composants avancés tels qu'une source d'ICP et des systèmes RTA, qui permettent de traiter des structures extrêmement précises pour diverses applications individuelles. Le réacteur est contrôlé par une interface logicielle intuitive et conviviale, assurant un contrôle et une automatisation efficaces des processus. Il est également bien protégé avec des systèmes de refroidissement fonctionnant à l'IA, assurant une température constante sur tout le réacteur.