Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-09416W #293644644 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09416W est un réacteur utilisé pour la synthèse et le dépôt de matériaux pour la recherche et les applications industrielles. Le réacteur est une chambre à corps en quartz moulé par injection à vide, conçue pour le dépôt de couches minces de matériaux semi-conducteurs à basse pression. Il s'agit d'une chambre cylindrique horizontale dotée d'une contre-pompe turbomoléculaire à deux étages et de deux orifices d'entrée situés sur le côté pour la livraison de matériaux précurseurs. La pression dans la chambre est maintenue entre 5 x 10-5 et 2 x 10-5 Torr pendant le fonctionnement. Le réacteur est équipé d'un équipement d'obturation unique qui permet un simple chargement de plaquettes dans la chambre et le traitement à basse pression. L'obturateur dispose également de lignes de détection infrarouge et ultraviolet intégrées dédiées à la surveillance du processus. Le chauffage est assuré par deux éléments résistifs commandés de manière indépendante et offrant des températures allant jusqu'à 1000 ° C, et est couplé à un module mélangeur de gaz avec 5 conduites de gaz. Il existe également une vanne électronique de grille située à l'arrière du réacteur. Le dépôt est propulsé par une tête de douche inertielle à quartz unique fonctionnant avec une pression totale de 1 milli-Torr, fournissant des matériaux perpendiculairement au substrat pour améliorer les uniformités et la couverture des étapes. La tête de douche en quartz peut également être montée sur un support réglable pour plus de flexibilité. Des substrats simples ou multiples jusqu'à 200mm peuvent être logés dans le réacteur. Le système de contrôle est conçu pour automatiser les procédés de dépôt en couches minces tels que le dépôt par pulvérisation, le dépôt chimique en phase vapeur et le dépôt par couche atomique. L'unité dispose de terminaux d'interface d'opérateur informatisés, d'une programmation de recettes et de vannes de réglage fin qui permettent un contrôle précis de l'ensemble du processus, y compris la pression, le débit, la température et d'autres variables. L'enregistrement des données peut également être effectué pour surveiller, examiner et documenter le processus. Le réacteur AMAT 0010-09416W est équipé d'un outil de gestion des gaz d'échappement (ESM) avec une pompe sèche complète en trois étapes. La GER est conçue pour réduire la contamination croisée liée au processus, fournir un excellent contrôle du gaz et réduire les gaz provenant de la chambre de procédé. Le réacteur APPLIED MATERIALS 0010-09416W est capable de produire des couches minces pour un large éventail d'applications, y compris des semi-conducteurs, des dispositifs photovoltaïques, optoélectroniques et MEMS. La souplesse et la précision du réacteur permettent la répétabilité et la reproductibilité des propriétés pelliculaires cruciales pour les applications microélectroniques. La large gamme de températures, la tête de douche réglable et les moyens de contrôle complets permettent aux utilisateurs d'ajuster et d'optimiser leurs propres processus, ce qui permet d'augmenter le débit et d'améliorer les résultats obtenus.