Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-09750 #293592810 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09750 Le réacteur est un simple four à plaquettes pour le dépôt de couches minces pour des applications industrielles semi-conductrices. Il convient à la recherche, au développement et à la production. Ce réacteur utilise des techniques de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et de dépôt physique en phase vapeur (PVD) pour convertir des précurseurs gazeux en matériaux solides. Le réacteur est équipé d'un bocal en quartz, chauffé à la fois avec résistance et bobines RF. Le bocal a un diamètre intérieur de 12 pouces (30 cm) et une hauteur de 20 cm. Ceci donne au réacteur un volume de 4,9 litres. Un distributeur de gaz est installé dans le fond du bocal pour assurer un écoulement uniforme de deux gaz. Deux étapes de pompage permettent de maintenir la chambre de procédé à une pression appropriée. Un contrôleur de processus permet à l'opérateur de contrôler la température, le débit de gaz et la puissance RF. La plage de température du réacteur AMAT 0010-09750 couvre de la température ambiante à 1 200 ° C En outre, le contrôleur de processus est équipé de programmes pour rendre le fonctionnement plus simple et plus efficace. En outre, le réacteur dispose d'un refroidissement à l'eau et d'un équipement de pompage qui garantit un processus de vide serré. Le refroidissement à l'eau est destiné à éliminer le chauffage local excessif et à maintenir la température du système dans une plage qui assure la fiabilité et la stabilité des performances de l'unité. En termes de contrôle des procédés, le réacteur offre un environnement adéquat pour le dépôt d'optiques et de matériaux fonctionnels, ainsi que pour un large éventail d'autres procédés industriels. Sa conception avancée offre un contrôle précis et répétable du processus de dépôt. Cela peut être bénéfique lors de la création de couches pures et de haute qualité. La machine de commande haut de gamme de APPLIED MATERIALS 0010-09750 Reactor permet de réaliser une gamme de fonctions de processus avec précision et cohérence. Les paramètres du processus peuvent être modifiés si nécessaire et peuvent également être sauvegardés pour une utilisation ultérieure. Comme mentionné précédemment, l'outil a un atout de refroidissement de l'eau qui aide à prévenir un chauffage local excessif et à maintenir une plage de température sûre. Dans l'ensemble, le réacteur 0010-09750 est un modèle fiable et performant avec de bonnes caractéristiques de contrôle de processus. Idéal pour les applications industrielles et de recherche qui nécessitent un dépôt de couche cohérent, ce réacteur polyvalent est un excellent choix pour diverses techniques CVD et PVD.