Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-09750 #293618116 à vendre en France

ID: 293618116
RF Match for P5000 Process: CVD.
AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09750 est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur traité thermiquement à une seule tranche. AMAT 0010-09750 est un outil utilisé pour le dépôt de couches minces sur des plaquettes et substrats semi-conducteurs. La chambre de réaction de cet équipement est de forme cylindrique et permet un dépôt uniforme du film sur le substrat. Le procédé est réalisé dans une atmosphère d'hydrogène chaud à des températures allant de 200 à 400 degrés Celsius. La chambre de réaction des MATÉRIAUX APPLIQUÉS 0010-09750 est équipée d'unités de contrôle des gaz et des procédés. Ces unités fournissent un environnement contrôlé avec précision, permettant un écoulement et une distribution précis de tous les gaz réactifs. Cela augmente la vitesse de réaction, ce qui augmente les rendements et améliore la qualité du produit. Un procédé de chauffage en deux étapes est également utilisé dans le système qui assure un chauffage uniforme du substrat et des gaz réactifs, créant un film homogène sur le substrat. La vitesse de croissance du film et la douceur de surface peuvent être ajustées avec un papillon situé à la sortie de la chambre de réaction. La réflectance du film peut également être contrôlée avec précision avec un obturateur situé dans la chambre de réaction. L'obturateur permet de produire un film de haute qualité avec une large gamme d'indices de réfraction. 0010-09750 est équipé d'une unité de surveillance intégrée par ordinateur. Cette machine enregistre avec précision la vitesse de dépôt, la température et la pression dans la chambre de réaction et permet un meilleur contrôle du procédé. L'outil comprend également des emboîtements matériels et un contrôle de l'injection de vapeur pour une sécurité accrue et une meilleure efficacité de production. Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09750 a été utilisé pour de nombreuses applications, y compris le dépôt de puces à mémoire d'oxyde de silicium et de nitrure de silicium, de couches de passivation pour puces à LED et de films de nitrure et d'oxyde pour interconnexions de transistors. L'atout est un outil efficace, fiable et fiable pour produire des matériaux en couches minces de haute qualité.
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