Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-09750 #293626250 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09750 est un réacteur spécialement conçu pour faire pousser des couches minces à la surface d'un substrat. Il se compose de trois composants principaux - une chambre de procédé, une alimentation électrique et un bras de chargement - et est utilisé pour une grande variété de procédés, y compris le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et le CVD renforcé par plasma (PECVD). La chambre de procédé est composée d'un espace rempli d'air - souvent appelé chambre à vide - dans lequel le substrat et les matériaux à couches minces sont chauffés à leur température désirée. L'alimentation, souvent appelée four, est reliée à la chambre de procédé et fournit l'énergie nécessaire à la croissance. Le bras de chargement, qui s'étend habituellement au-delà de la chambre de procédé, permet de placer des substrats dans la chambre. AMAT 0010-09750 dispose d'un équipement de contrôle de processus avancé qui aide à surveiller, contrôler et optimiser les processus de dépôt. Il dispose également d'un système embarqué de distribution de gaz qui fournit des gaz réactifs et des précurseurs au substrat, d'un orifice d'échappement chauffé, d'une unité de vide, d'un outillage spécialisé et d'une machine d'acquisition de données unique. Il dispose également d'un outil de contrôle avancé qui aide à gérer le processus de dépôt et permet une optimisation plus rapide du processus. APPLIED MATERIALS 0010-09750 dispose également d'un certain nombre de dispositifs de sécurité, y compris l'arrêt automatique, la prévention de la contamination et les dispositifs d'accrochage pour empêcher le contact avec les composants chauds. Il dispose également d'un outil automatisé de collecte de données qui enregistre les données de traitement pour un examen et une analyse faciles. 0010-09750 est conçu pour traiter un large éventail de tailles de substrat, d'épaisseurs de film et de températures de processus. Il est habituellement utilisé pour le recuit à haute température et le dépôt de matériaux tels que le silicium, le titane ou le nitrure d'aluminium. Il est conçu pour fournir un haut débit et un contrôle de processus supérieur. Dans l'ensemble, AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09750 est un réacteur très avancé et fiable capable de faire pousser des couches minces à la surface d'un substrat. Son modèle avancé de contrôle des processus garantit une qualité optimale, tandis que sa variété d'outils spécialisés et de caractéristiques de sécurité offrent une stabilité et une efficacité supérieures. Il est idéal pour ceux qui ont besoin de développer des films minces sur leurs substrats d'une manière rapide et fiable.