Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-09750 #9410409 à vendre en France
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Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09750 est un outil avancé de traitement des matériaux, généralement utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs, la microélectronique et la production optoélectronique. En combinant un milieu actif sous vide, ionisé ou à décharge brillante, une chimie en phase gazeuse et une chaleur contrôlée, cette machine est conçue pour produire, modifier et développer un matériau ou une surface technologique. Le réacteur lui-même est composé d'un matériel et d'un logiciel intégrés qui est conçu pour fournir un environnement efficace, inerte et contrôlable pour soutenir une variété de techniques de traitement des matériaux. Le matériel se compose d'une chambre centrale du réacteur, d'un équipement de pompage à vide, d'une section d'entrée chauffée à flux massique et de systèmes de sortie et de pompage distincts. Un système de contrôle informatique complet et interactif gère les paramètres opérationnels et l'automatisation de la machine. Dans la chambre du réacteur AMAT 0010-09750, une enceinte en acier magnétique est créée pour assurer un environnement sûr et confiné pour le traitement du gaz et des matériaux. Une atmosphère isolante est maintenue, permettant de régler une plage de températures pour obtenir des résultats spécifiques. Cette température contrôlée est permise par un élément résistant-chauffant, relié à l'embase et entraíné par une source de courant alternatif. Pour accueillir des matériaux spécifiques au processus et former un environnement spécialisé, l'unité de pompage à vide évacue et tire les gaz appropriés dans la chambre. Cela se fait par l'intermédiaire d'un paquet turbo-moléculaire/pompe à ions/cryopump ainsi que d'une rugeuse. La pompe à ions utilise du gaz ionisé pour assurer des niveaux de vide élevés tandis que la cryopump élargit la gamme des phases gazeuses possibles. L'outil d'entrée de flux massique chauffé permet d'introduire des matériaux plus réactifs et corrosifs dans l'actif en utilisant la chimie en phase gazeuse. On évapore alors et incorpore rapidement le matériau dans des couches minces ou d'autres constructions à l'état solide. L'élément chauffé améliore la vitesse de réaction du matériau, la température étant fixée au niveau nécessaire à un procédé spécifique. En plus des systèmes de contrôle et d'entrée, le réacteur APPLIED MATERIALS 0010-09750 est également conçu pour gérer efficacement ses propres processus. Un modèle d'abstraction de processus automatisé, qui est une boucle PID programmée par ordinateur, permet au capteur de mesurer, surveiller et ajuster la pression de vide et la température pour maintenir un environnement équilibré. La sortie est également contrôlée par des systèmes de filtration sous vide qui recueillent et traitent les gaz indésirables et les matériaux solides produits pendant l'opération. Dans l'ensemble, le réacteur 0010-09750 est une plate-forme optimale pour le traitement efficace et sûr des matériaux. Cette machine est conçue pour être utilisée dans une variété d'industries, de la fabrication de semi-conducteurs à la microélectronique et la production d'optoélectronique. Son ensemble de matériel et de logiciels intégrés assure le maintien d'un environnement optimal afin d'obtenir les résultats souhaités.
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