Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-11239 #293651953 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-11239 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) spécialement conçu pour le dépôt en couche mince haute performance. Au cœur se trouve une chambre à vide, qui peut fonctionner à une pression atmosphérique allant jusqu'à 10-5 Torr. La chambre est en acier inoxydable et comporte une fenêtre en quartz pour l'observation du processus de dépôt. A l'intérieur de la chambre se trouve un plateau tournant, qui supporte le substrat et peut être chauffé à des températures allant jusqu'à 500 ° C Une combinaison de sources d'énergie RF et DC peut être utilisée pour générer le plasma nécessaire au processus de dépôt. AMAT 0010-11239 est un système modulaire qui peut être adapté aux besoins de l'utilisateur. Un système collecteur de gaz facultatif peut être ajouté afin d'introduire séparément plusieurs gaz dans la chambre, ce qui permet de procéder à divers dépôts si nécessaire. Le réacteur est également équipé d'un système de traitement des gaz, pour assurer un contrôle précis de tous les gaz utilisés pour le processus de dépôt. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur 0010-11239 est conçu pour obtenir une uniformité maximale sur le substrat, même lors du dépôt de couches minces de matériaux complexes. Son logiciel sophistiqué permet un contrôle précis du processus de dépôt, y compris la puissance laser, les débits de gaz et la température du substrat. L'ensemble du processus est surveillé et enregistré pour assurer des performances répétables. Le réacteur 0010-11239 est un choix fiable et économique pour le dépôt en couches minces, en raison de ses caractéristiques sophistiquées et de sa gamme de configurations. Sa conception modulaire le rend adapté à une variété de tâches, et sa capacité à manipuler plusieurs gaz en fait un outil polyvalent pour une large gamme d'applications de recherche et industrielles. De plus, le logiciel et le matériel assurent un contrôle précis du procédé et de la qualité finale du dépôt.