Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-12516 #293651608 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-12516 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) ultra-sous vide conçu pour diverses applications. Il convient à la plupart des procédés de dépôt de couches minces de semi-conducteurs et de matériaux avancés, y compris les nanomatériaux. L'équipement présente une conception de chambre améliorée qui permet une plus grande uniformité du processus de dépôt, une plus grande vitesse du processus et une meilleure répartition de la température sur le substrat. Il comprend également un mécanisme de serrage mécanique unique qui maintient un contact durable entre l'embase et les pièces de couverture, permettant un débit de gaz maximal pour de meilleures performances de l'équipement. Le réacteur est également équipé d'un système de pompe C-DSF avec deux pompes à ions de 65 l/s, et d'une pompe turbo moléculaire de 100 l/s pour assurer la baisse de pression rapide et la stabilisation requise. L'unité est conçue avec un grand nombre de paramètres de processus, dont chacun sont programmables, le rendant hautement réglable et flexible, permettant aux utilisateurs d'adapter la sortie aux besoins spécifiques. Il est équipé d'une fonction d'auto-purge qui permet le nettoyage automatisé du réacteur entre les opérations, et sa métrologie de haute précision de pointe peut fournir des résultats précis. En termes de sécurité et de protection, AMAT 0010-12516 est conçu avec des normes de sécurité rigoureuses. Il est livré avec une machine d'interception qui empêche tout accès de la zone de processus pendant le fonctionnement, et il dispose également d'un outil de diagnostic qui peut surveiller la sécurité et l'état des performances en temps réel. En outre, l'actif est équipé de capteurs de pression et de température intégrés, ainsi que d'un moniteur de puissance modèle, qui peut être utilisé pour détecter les problèmes potentiels. Dans l'ensemble, APPLIED MATERIALS 0010-12516 est un réacteur avancé, très fiable et efficace de dépôt chimique en phase vapeur sous vide ultra-haute (CVD) adapté à une variété d'exigences de dépôt en couches minces, avec une large gamme de paramètres de processus et de caractéristiques de sécurité pour une sécurité et des performances accrues de l'utilisateur.