Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-13321W #293658052 à vendre en France

ID: 293658052
Assy robot driver.
AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-13321W est un réacteur de procédé ultra-compact conçu pour des applications telles que le dépôt de couche atomique d'oxyde, le dépôt de couche atomique de nitrure et d'autres procédés de dépôt en couches minces. Ce réacteur est capable de déposer sur un substrat des couches d'ultra-minces, d'ultra-haute pureté et de matériaux uniformes. AMAT 0010-13321W est construit en acier inoxydable de haute qualité, ce qui le rend résistant à la corrosion et facile à nettoyer. Ses chambres sont conçues pour assurer une température et un débit de gaz uniformes tout au long du processus. Pour maximiser l'efficacité du dépôt, on peut contrôler les températures du procédé jusqu'à une précision de 0,1 ° C Le réacteur peut fonctionner par un contrôleur extérieur permettant une souplesse de fonctionnement. La source magnétron de ce réacteur le rend idéal pour le dépôt de couches d'oxydes et de nitrures. La source magnétron assure un dépôt uniforme du revêtement de matière sur le substrat. Il dispose également d'un bateau à quartz pouvant contenir un maximum de 1,6 gramme de matériau, assurant une répartition uniforme du matériau sur le substrat. La conception de ces systèmes permet un entretien facile, avec des composants remplaçables tels que le bateau à quartz, la source magnétron, et l'électrode supérieure tous accessibles via une porte d'entretien pour l'entretien de routine et le dépannage. La chambre de réaction est équipée d'une alimentation en gaz réglable, permettant l'introduction de gaz précurseurs pour le dépôt. Cette entrée de gaz est également équipée d'un filtre d'épurateur à gaz, qui peut filtrer les contaminants en excès de la chambre de réaction. La chambre comporte également un dispositif de vide latéral qui capte les sous-produits de réaction, les empêchant de rentrer dans le réacteur et affectant le processus de dépôt. Dans l'ensemble, APPLIED MATERIALS 0010-13321W est un réacteur de procédé ultra-compact de haute performance conçu pour le dépôt de couches de matériau ultra-minces, ultra-haute pureté et très uniformes. Sa construction durable et son contrôle de haute précision le rendent bien adapté à une variété d'applications, fournissant des résultats fiables et cohérents.
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