Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-21246 #9378778 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-21246 Le réacteur est un équipement sophistiqué conçu pour le dépôt de couches minces sur des substrats pour des applications avancées de recherche et de production. Le réacteur peut être utilisé dans divers procédés tels que le dépôt par couche atomique (ALD), le dépôt physique en phase vapeur (PVD), le dépôt chimique en phase vapeur à basse pression (LPCVD) et l'ultra-vide (UHV). L'extérieur du réacteur est construit en acier inoxydable et comporte une chambre d'isolement qui est équipée d'un équipement sous vide pour le processus de dépôt. Un système de contrôle avancé des processus (APC) est utilisé pour contrôler les paramètres requis pour le processus choisi, tels que la pression, la température et le débit, et fournit un suivi en temps réel des opérations avec une interface conviviale. L'intérieur du réacteur est constitué d'un mécanisme qui permet de délivrer avec précision un matériau précurseur d'ALD ou de CVD et de créer un arc de dépôt dans les procédés PVD. La buse conçue pour le dépôt a deux configurations, multi-port pour les processus CVD ou single-port pour les processus ALD. Selon le matériau et la taille du substrat, un porte-substrat tournant ou non peut être utilisé pour assurer un dépôt de film uniforme. Le réacteur AMAT 0010-21246 est équipé d'une gamme de dispositifs tels qu'une source de faisceau d'électrons pulsés, un spectromètre de masse, une unité de pompage chauffée et une machine tampon de gaz automatisée. Ces caractéristiques permettent à l'utilisateur de contrôler les conditions de fonctionnement telles que la température du substrat et la pression et le débit du gaz utilisé dans le procédé. Le réacteur est en fin de compte une machine efficace et précise pour le dépôt de films et offre une grande flexibilité car l'utilisateur peut ajuster rapidement les paramètres et les opérations à l'aide de l'outil Advanced Process Control. Les composants complexes de la machine sont idéaux pour la production de films minces avec une grande homogénéité répétable et une excellente adhérence aux substrats.