Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-24456 #293702782 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-24456 est un équipement de réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à haute performance conçu pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Ce réacteur de pointe est fabriqué par AMAT, un fournisseur leader d'équipements, de services et de logiciels pour l'industrie mondiale des semi-conducteurs. Le réacteur AMAT 0010-24456 est spécialement conçu pour répondre aux exigences exigeantes des environnements à ultra-haut vide (UHV), assurant un contrôle précis et un dépôt uniforme des couches minces sur les plaquettes de silicium. Au cœur du réacteur APPLIED MATERIALS 0010-24456 se trouve un système de chauffage sophistiqué qui permet un contrôle précis de la température dans la chambre de procédé. Cette unité de gestion thermique permet le dépôt d'une large gamme de couches minces, y compris du nitrure de silicium, de l'oxyde de silicium et du silicium polycristallin, avec une homogénéité et une répétabilité exceptionnelles. Les capacités à haute température du réacteur permettent le dépôt de couches minces à des températures allant jusqu'à 1000 degrés Celsius, garantissant une qualité de film optimale et une adhérence au substrat. Le réacteur 0010-24456 est équipé d'une machine avancée d'amenée de gaz qui permet l'introduction précise de gaz précurseurs dans la chambre de procédé. Cet outil de distribution de gaz est équipé de régulateurs de débit massique et de régulateurs de pression pour assurer des débits de gaz précis et un contrôle de la pression de la chambre. Le réacteur est également équipé d'un outil d'échappement sophistiqué qui élimine efficacement les sous-produits et les gaz résiduaires de la chambre de traitement, en maintenant un environnement de traitement propre et stable. Une des caractéristiques clés du réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-24456 est son modèle polyvalent de manutention des plaquettes, qui peut accueillir des plaquettes de différentes tailles, y compris 200mm et 300mm. L'équipement de manutention des plaquettes est conçu pour le chargement et le déchargement automatisés des plaquettes, minimisant l'intervention de l'opérateur et réduisant les temps de cycle. Le système est également équipé d'une technologie de préhension pour maintenir les plaquettes en place de façon sûre pendant le traitement, assurant un dépôt de film uniforme sur toute la surface de la plaquette. Le réacteur AMAT 0010-24456 est contrôlé par une interface logicielle sophistiquée qui permet un contrôle précis des paramètres et une surveillance en temps réel du processus de dépôt. L'interface logicielle permet aux opérateurs de définir des recettes de dépôt, de surveiller les paramètres du processus et de résoudre les problèmes qui pourraient surgir pendant le traitement. De plus, le réacteur est équipé de dispositifs de sécurité avancés, y compris des embrayages et des alarmes, pour assurer un fonctionnement sûr et fiable. En conclusion, le réacteur APPLIED MATERIALS 0010-24456 est une unité CVD de pointe qui offre des performances, une fiabilité et une polyvalence exceptionnelles pour les applications de fabrication de semi-conducteurs. Avec sa machine de gestion thermique avancée, son outil de distribution de gaz, ses capacités de manutention des plaquettes et son interface logicielle, le réacteur 0010-24456 fournit aux fabricants de semi-conducteurs les outils dont ils ont besoin pour réaliser des dépôts de couches minces de haute qualité et répondre aux exigences exigeantes de l'industrie des semi-conducteurs d'aujourd'hui.