Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-27430 #293799036 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-27430 est un réacteur multizone à dépôt chimique en phase vapeur à basse pression (LPCVD). Le réacteur utilise un système de torche à paroi chaude à quatre zones in situ pour générer des couches minces de dépôt de silicium polycristallin, de nitrure de silicium et d'oxyde de silicium. Le réacteur offre une homogénéité et un contrôle d'épaisseur supérieurs en raison de ses zones multiples et de sa précision à haute température. Le réacteur est constitué d'une chambre à vide centrale qui est équipée de quatre zones de traitement symétriquement alignées. Chaque zone est composée d'un échangeur de chaleur en céramique, de tiges de support et d'une chambre de traitement. L'échangeur de chaleur céramique contient une atmosphère inerte d'hydrogène et d'azote MFC pour un contrôle précis de la température dans toutes les zones. Les tiges de support supportent la chambre de procédé, qui se compose d'un tube de traitement intérieur, et d'un tube extérieur en quartz. Le tube à quartz est chauffé extérieurement et sert également à la surveillance et au contrôle de la température du tube intérieur. Le réacteur contient également un certain nombre d'autres composants, tels que des injecteurs réactionnels et des contrôleurs de débit massique. Les injecteurs sont utilisés pour injecter les gaz nécessaires au processus de dépôt du LPCVD. Les régulateurs de débit massique sont utilisés pour contrôler et ajuster les débits des différents gaz, ainsi que les températures de toutes les zones. Le réacteur contient également un manomètre basse pression, un ensemble de purge de gaz inerte et un panneau de diffusion de gaz. Le réacteur utilise de l'hydrogène et de l'azote à haute pression pour limiter l'oxydation et améliorer la qualité des matériaux. Il utilise également un procédé automatisé de nettoyage des tubes qui réduit le besoin de nettoyage manuel et d'entretien constant du réacteur. En outre, la précision de température est assurée par un certain nombre de capteurs de température situés dans tout le réacteur. Le réacteur est conçu pour le dépôt de films semi-conducteurs avec une épaisseur et une uniformité précises. Il est également très fiable et peut offrir jusqu'à 50 % de réduction des déchets matériels. Le réacteur a également été conçu pour minimiser l'intervention de l'opérateur et assurer une répétabilité et une qualité de production constante. Le réacteur peut être utilisé pour la fabrication de dispositifs logiques, de dispositifs à mémoire et d'autres composants très précis et rigoureux pour un large éventail d'industries.