Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-27433 #293743876 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-27433 est un équipement de réacteur à plasma sous vide conçu pour des applications avancées de traitement des semi-conducteurs. Développé par AMAT Inc., un des principaux fournisseurs mondiaux d'équipements de fabrication de semi-conducteurs, ce modèle de réacteur offre une technologie de pointe pour le dépôt de films minces et la gravure de plaquettes de silicium dans un environnement contrôlé. Au cœur de l'AMAT 0010-27433 se trouve une chambre à vide haute performance qui peut atteindre des niveaux de vide ultra-élevés pour minimiser la contamination des procédés et assurer un dépôt à haute pureté. Le réacteur est équipé de multiples ports d'entrée de gaz, de sources de plasma RF et d'une étape de chauffage du substrat permettant un contrôle précis des paramètres du processus de dépôt. L'une des caractéristiques clés de APPLIED MATERIALS 0010-27433 est sa capacité à effectuer des dépôts chimiques en phase vapeur (CVD) et des dépôts physiques en phase vapeur (PVD). CVD implique la réaction des gaz précurseurs pour former un film mince solide à la surface du substrat, tandis que PVD implique la pulvérisation physique de matériaux cibles pour déposer des films minces. Cette capacité de double processus permet un large éventail d'options de dépôt de matières et de souplesse dans l'élaboration des processus. Le réacteur est également équipé de sources de plasma avancées qui peuvent générer des espèces très réactives pour améliorer la qualité et l'uniformité des films. Ces sources de plasma peuvent être ajustées à différentes fréquences et niveaux de puissance pour optimiser l'énergie et la densité du plasma pour des processus de dépôt spécifiques. Pour assurer un contrôle précis du processus de dépôt, le 0010-27433 est équipé d'un système sophistiqué de contrôle du débit de gaz. Cette unité permet l'acheminement précis des gaz précurseurs dans la chambre de réaction, permettant un contrôle serré de l'épaisseur, de la composition et de l'uniformité du film. En plus des capacités de dépôt, AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-27433 offre également des capacités de gravure pour la fixation et la mise en forme de plaquettes de silicium. Le réacteur peut être configuré avec différentes chimies de gravure et des paramètres de processus pour obtenir des taux de gravure et une sélectivité élevés, essentiels pour créer des structures complexes de dispositifs semi-conducteurs. La machine du réacteur est contrôlée par une interface conviviale qui permet une programmation facile des recettes de processus et le contrôle des paramètres de processus en temps réel. Cette interface permet également l'enregistrement et l'analyse des données pour l'optimisation des processus et le dépannage. Dans l'ensemble, le réacteur AMAT 0010-27433 est un outil polyvalent et fiable pour la fabrication de semi-conducteurs, offrant des capacités de dépôt et de gravure avancées dans une seule plate-forme. Ses composants performants et son contrôle précis des processus en font un choix idéal pour les environnements de recherche et de production nécessitant un dépôt et une gravure de couches minces de haute qualité pour les dispositifs semi-conducteurs avancés.