Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-30094 #293658018 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-30094 est un outil très efficace et polyvalent utilisé pour le dépôt de couches minces sur des substrats. Ce réacteur est un équipement de dépôt chimique en phase vapeur de métaux organiques (MOCVD), ce qui signifie qu'il utilise des réactions chimiques pour créer et déposer des couches de matériau sur un substrat. Le réacteur se compose d'un système à plusieurs chambres avec de multiples options de configuration, permettant une plus grande flexibilité lors du revêtement des substrats. Le coeur du réacteur est une chambre de dépôt, qui abrite le substrat de revêtement. Cette chambre est équipée de multiples sources de chauffage, y compris le chauffage à lampe, le chauffage à quartz et les parois chaudes et froides, pour gérer avec précision la température du substrat. De plus, la chambre est couplée à une unité de distribution de puissance, qui applique la puissance électrique nécessaire pour générer les réactions chimiques qui forment les couches minces. L'interface entre la chambre de dépôt et l'environnement extérieur est une chambre de transfert de vide. Cette chambre est équipée d'une pompe d'appoint mécanique et d'une machine de refroidissement cryogénique pour maintenir la pression de vide et la plage de température souhaitées. La chambre de transfert permet également le déplacement automatisé du substrat de la chambre de dépôt vers l'environnement extérieur pour le refroidissement et le test. Le réacteur est conçu pour fonctionner avec une grande variété de matériaux de substrat, tels que le verre, la céramique et les métaux. Il peut également manipuler des substrats de grande taille, jusqu'à 450mm. Il est capable de déposer des couches épaisses de matériaux cibles multiples à la fois, jusqu'à 10nm d'épaisseur pour chaque couche. La vitesse de dépôt est variable et peut être réglée en fonction de l'épaisseur de couche désirée. En outre, ce réacteur a été spécialement conçu pour un fonctionnement ultra propre, pour déposer des films avec des substrats uniformes et de faibles niveaux de contamination. Réacteur AMAT 0010-30094 est un excellent outil pour les processus de dépôt, offrant un contrôle de haute précision et la polyvalence. Il est capable de produire des couches minces pour un large éventail d'applications de couches minces, telles que les revêtements optiques, les semi-conducteurs et l'optoélectronique, avec une grande précision et efficacité. Les multiples systèmes de chauffage, l'outil de distribution d'énergie et les capacités de contrôle du vide le rendent très fiable et convivial.