Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-30125 #9277735 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-30125 est une chambre de réaction à grande vitesse utilisée pour des dépôts rapides et précis de couches minces. Il utilise un mélange de gaz chimique et de sources d'énergie pour produire les caractéristiques souhaitées d'un film mince, telles que l'homogénéité, les propriétés optiques et électriques. Cette chambre du réacteur est spécialement conçue pour des procédés rentables, permettant des taux de dépôt peu élevés par zone. La chambre du réacteur est construite en acier inoxydable, fournissant un boîtier résistant à la température. Un système de couverture de gaz inerte est présent afin de maintenir la stabilité pendant le fonctionnement et d'éviter l'oxydation et la contamination indésirables. De plus, une pompe à vide extrait de l'air de la chambre, permettant une pression désirée pour la réaction. Cette chambre est généralement chauffée jusqu'à 650 ° C pendant les opérations, ce qui facilite encore le processus de réaction. Les principaux éléments au cœur de cette chambre sont le réchauffeur à plaquettes, le plasma inductif couplé, le générateur, la tête de douche, les générateurs haute fréquence et basse fréquence haute tension, ainsi que les électrodes, les bobines et les lignes de gaz associées. Le réchauffeur à plaquettes maintient une température uniforme sur les plaquettes, tandis que le générateur de plasma à couplage inductif produit un plasma uniforme d'ions et d'électrons chargés positivement. La tête de douche dirige alors le plasma vers les plaquettes. Pendant le processus, les générateurs haute fréquence et basse fréquence fournissent de l'énergie électrique aux électrodes, conduisant à une réaction en cascade avec les particules de plasma. Une fois que la couche mince de cuivre désirée a été déposée, les gaz et l'énergie électrique peuvent être coupés, ce qui permet un renouvellement rapide du traitement des plaquettes. En résumé, AMAT 0010-30125 est une chambre de réaction à grande vitesse conçue pour le dépôt rapide de couches minces de manière efficace et rentable. Ses composants se combinent pour permettre un dépôt précis et contrôlable de couches minces par une réaction en cascade impliquant du plasma, de l'énergie électrique et des gaz contrôlés par la température.