Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-30318 #293661402 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-30318 est un équipement de pointe de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD). Ce dispositif polyvalent fournit un dépôt de film in situ de haute qualité sur une variété de substrats et dispose d'un système à paroi froide de poche unique. Compte tenu des exigences de flexibilité des procédés de fabrication de pointe, ce réacteur PECVD peut traiter une variété de matériaux, tels que l'oxyde de silicium, le nitrure, le nitrure de silicium, le silicium polycristallin, le diamant de dépôt chimique en phase vapeur, et bien d'autres. L'une des caractéristiques les plus appréciées du réacteur AMAT 0010-30318 est sa MicroCap Unit qui assure la précision et la sécurité lors du dépôt du film. Cette machine est composée d'un outil de pointage automatique qui fournit plus de précision et de cohérence pour des résultats reproductibles, d'où un plus grand degré de contrôle du processus. Les caractéristiques supplémentaires du réacteur APPLIED MATERIALS 0010-30318 comprennent une interface intuitive de contrôle de l'utilisateur, une excellente uniformité de dépôt de 99,5 %, des conditions d'inclinaison hors centre plus petites et un débit de traitement supérieur par rapport à d'autres systèmes. Ce réacteur utilise également une tête de douche conçue sur mesure pour un dépôt uniforme et homogène avec un contrôle précis de l'épaisseur, de l'uniformité et de la conformité du revêtement. Réacteur 0010-30318 a des applications dans la production de panneaux plats, les réseaux de diodes laser, les dispositifs thermoélectriques, le collage de puces LED, et l'emballage MEMS. En outre, sa polyvalence et son homogénéité sont également idéales pour les substrats de conditionnement avancés, tels que les substrats gravés et texturés au laser. En conclusion, AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-30318 est un réacteur PECVD de pointe, offrant aux utilisateurs avancés une plate-forme fiable et polyvalente pour fournir des résultats précis et cohérents. Son actif MicroCap offre un contrôle de processus supérieur, permettant des débits plus élevés et des rendements plus élevés. Une uniformité de dépôt très fiable de 99,5 % sur divers substrats est l'un des avantages majeurs de ce réacteur. Enfin, sa polyvalence et sa précision en font une excellente solution pour un large éventail d'applications, des écrans plats aux emballages MEMS.