Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-30319 #293661399 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-30319 est un équipement de réacteur de haute performance conçu pour fournir des capacités de traitement et de dépôt supérieures pour la production de semi-conducteurs composés et de matériaux connexes. Ce réacteur est idéal pour les applications relatives au MEMS, aux composants optoélectroniques, à l'électronique de puissance et à d'autres structures micro et nanométriques créées à l'aide de procédés avancés de fabrication de couches minces et de dispositifs. Le réacteur dispose d'un grand volume intérieur qui est optimisé pour les processus à haut débit, avec des débits de gaz maximaux jusqu'à 9000 centimètres cubes standard par minute (sccm) et des pressions totales jusqu'à 1000 mTorr. Le réacteur intègre une source de pulvérisation RF, permettant un contrôle précis de l'épaisseur du dépôt par pulvérisation et des paramètres plasmatiques, et est également équipé d'un chargeur de substrat rotatif intégré, optimisant l'échange de substrat et minimisant le besoin d'équipements supplémentaires. Le système est équipé d'un module loadlock et l'unité de contrôle numérique multi-zones à haute résolution assure une homogénéité précise sur l'ensemble du substrat. La chambre peut être contrôlée en température jusqu'à -20 ° C, ce qui permet d'optimiser l'épaisseur et la composition de la couche à travers des plages de température variables. Le réacteur utilise un spectromètre de masse quadrapolaire discret avec une large gamme de capacités de détection sensibles, utilisé pour surveiller la composition des couches pulvérisées ou déposées. Un module avancé de livraison de gaz assure également un contrôle précis de la livraison des gaz de gravure et de dépôt, avec la capacité de délivrer jusqu'à 20 gaz. La machine du réacteur est conçue pour une utilisation avec une gamme d'outils de procédé, tels que des outils d'analyse de surface in situ, outil de manutention de plaquettes, et d'autres accessoires. En outre, l'actif est conçu avec un certain nombre de caractéristiques de sécurité, y compris des capteurs mécaniques, des emboîtements, et des systèmes de ventilation. Dans l'ensemble, le modèle de réacteur AMAT 0010-30319 offre des performances précises et un débit inégalé pour les procédés avancés de fabrication de couches minces et de dispositifs. Il est bien adapté à la production de matériaux semi-conducteurs composés et de MEMS, de composants optoélectroniques et d'autres structures micro et nano-échelle.