Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-30686 #9199797 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-30686
ID: 9199797
High efficiency RF matching network. .
AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-30686 est un réacteur CVD à plasma conçu pour le traitement rapide d'une grande variété de matériaux. Il est capable de fonctionner à très haute température et offre une grande variété d'options de processus pour permettre aux utilisateurs de sélectionner les meilleurs paramètres de traitement pour leurs applications spécifiques. Le réacteur est équipé d'une source de plasma haut de gamme capable de générer des ions de haute énergie, permettant un traitement à haute température. La source de plasma robuste et fiable permet également un transport de chaleur efficace, permettant des cycles de processus rapides et une excellente répétabilité du processus. Le réacteur AMAT 0010-30686 est une chambre rectangulaire étanche, construite à partir d'aluminium de qualité supérieure et d'acier inoxydable. Un collecteur de gaz situé au sommet du réacteur se connecte aux conduites de gaz et peut être réglé pour fournir le débit et le niveau de pression optimaux pour un procédé donné. A l'intérieur de la chambre, une torche à plasma est suspendue au-dessus de la surface du substrat à l'aide d'une structure support, permettant un contrôle optimal des conditions du procédé et des résultats reproductibles. La torche à plasma est alimentée par un générateur haute fréquence, capable de générer des ondes radio de haute énergie (13,56 MHz). Cette énergie est ensuite transmise à la buse de torche à travers un réseau RF, produisant un plasma haute densité. Le plasma est suffisamment énergique pour atteindre des températures allant jusqu'à 1500 ° C, permettant la croissance de films et de revêtements à des vitesses de plusieurs angströms par seconde. Le substrat est chargé dans l'enceinte puis immergé dans une solution de précurseur liquide. L'interface liquide-solide peut être maintenue à température constante, ce qui permet au substrat de rester chauffé de façon homogène et favorise le dépôt de film uniforme. Le niveau de pression à l'intérieur de la chambre peut être ajusté pour atteindre la pression désirée pour le procédé spécifique. La température peut être régulée au moyen d'un panneau de commande, qui est relié à des thermocouples noyés dans les parois de la chambre et permet un contrôle et un contrôle précis des conditions du procédé. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur 0010-30686 peut être utilisé pour un large éventail d'applications, ce qui en fait un outil polyvalent pour les chercheurs et les industries. Grâce à son procédé fiable et reproductible, il permet la fabrication de couches minces de haute qualité, de revêtements et d'autres matériaux complexes utilisés dans l'électronique, l'optoélectronique, les capteurs et les dispositifs médicaux.
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