Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-36162 #180798 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-36162 est un réacteur CVD à dépôt chimique en phase vapeur à haute température qui est utilisé pour déposer une variété de couches minces utilisées dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il est spécialement conçu pour des matériaux tels que le silicium amorphe, le silicium polycristallin et d'autres films variétaux. Les fonctions de contrôle des processus à l'état solide et l'architecture avancée de contrôle des processus offrent un contrôle de la métrologie et des performances de rendement supérieures. La faible empreinte et les ressources limitées dont on a besoin prêtent cet outil à des laboratoires dont l'espace est limité. AMAT 0010-36162 utilise une technologie de résonance cyclotron électronique (ECR) qui réduit les impuretés, le taux de croissance en phase gazeuse et les films de meilleure qualité pour déposer les films nécessaires à la production de semi-conducteurs. Le ECR est alimenté par un équipement RF linéaire capable de fournir 4-8 GHz, 450 W de puissance de processus. Ce système est idéal pour un contrôle robuste des dépôts et une uniformité. Le réacteur CVD peut fonctionner jusqu'à 1250 ° C, parfait pour le dépôt de films tels que GaN ou SiC avec une grande qualité et uniformité. La machine dispose également de nombreuses caractéristiques de sécurité qui protègent le film de dépôt contre la ruine, y compris le refroidissement multicouche, un outil de sécurité à base de gaz, le refroidissement latéral et le diagnostic intégré. APPLIED MATERIALS 0010-36162 fournit un ensemble unique de fonctionnalités pour aider à obtenir une plus grande productivité, des films plus uniformes, des films plus reproductibles, et un meilleur contrôle des processus. La taille de la chambre peut être équipée d'un robot 2 "wafer pour augmenter la densité et le débit. Les options d'outillage supplémentaires mises à disposition sont compatibles avec la chambre CVD et sont conçues pour éliminer le besoin de manutention manuelle. Ces options améliorent également le rendement et le débit en améliorant l'homogénéité. 0010-36162 est capable de contrôler la température et la pression, ce qui est vital pour le contrôle du processus et de l'uniformité. L'alimentation électrique réglable permet de contrôler plus facilement la vitesse de dépôt et de maintenir une température constante dans le réacteur CVD. Le module à changement rapide pour les gaz de processus ajoute une couche unique de flexibilité pour les utilisateurs et facilite le passage d'un processus à un autre. Dans l'ensemble, AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-36162 est un réacteur CVD puissant, robuste et flexible qui offre aux utilisateurs le meilleur en termes de contrôle des procédés et de rendement. Les fonctionnalités avancées et les capacités de l'actif en font un ajout idéal à tout environnement de laboratoire.