Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-36162 #9075364 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-36162 est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur à basse pression (LP-CVD) vertical conçu pour assurer la croissance de la plus haute qualité de films de silicium poly-cristallin ultra-pureté pour l'industrie des semi-conducteurs. Ses caractéristiques uniques en font l'un des réacteurs LP-CVD les plus polyvalents disponibles. Le réacteur AMAT 0010-36162 dispose d'une zone chaude en tube de quartz vertical et peut accueillir des plaquettes simples et multiples. Ce réacteur dispose d'un système avancé de chauffage à bande plane qui fournit un profil de température constant, entraînant une croissance uniforme des couches minces sur les plaquettes verticales et horizontales. Ce système a également un débit réglable pour une croissance de film très efficace et un contrôle simple d'assistance à la chambre. En outre, des lecteurs de puissance à fréquence variable et des capacités d'enregistrement des données sont disponibles, permettant une répétabilité précise des processus. Le réacteur dispose également d'une chambre de procédé vitrée, permettant aux utilisateurs de visualiser le processus de dépôt en temps réel. Ce réacteur est équipé d'un spectromètre dynamique intégré pour mesurer les taux de dépôt et l'uniformité du film. En outre, son système avancé de gestion du N2O est conçu pour réduire les niveaux de particules pendant le processus de dépôt, ce qui entraîne une diminution des déchets et des rendements plus élevés. De plus, APPLIED MATERIALS 0010-36162 est un réacteur LP-CVD fiable avec une longue durée de vie. La zone chaude du tube à quartz est conçue pour une durée de vie plus longue et une capacité de température plus élevée, ce qui lui permet de répondre aux exigences des conditions de croissance les plus difficiles. Les systèmes électriques et de gaz avancés sont conçus pour une efficacité maximale avec peu d'entretien. En résumé, 0010-36162 est un réacteur LP-CVD fiable et efficace conçu pour assurer une croissance uniforme et de haute qualité des films de silicium poly-cristallin pour l'industrie des semi-conducteurs. Ses caractéristiques en font l'un des réacteurs LP-CVD les plus polyvalents et avancés disponibles.