Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-36162R #9075360 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-36162R est un type de réacteur utilisé dans la fabrication avancée de semi-conducteurs. C'est un réacteur de gravure Versalinx, qui est un système de gravure à vapeur sèche unique à AMAT. Le système est conçu pour être utilisé dans la gravure de l'aluminium et du silicium pour les applications IC et MEMS avant et arrière. Ce modèle spécifique du Versalinx est équipé d'un biais électrique, et peut accueillir une gamme de produits chimiques de gravure, ce qui le rend très polyvalent. AMAT 0010-36162R peut graver des caractéristiques entre 20 nanomètres et 1 micron dans l'aluminium et le silicium avec un excellent contrôle de la profondeur. Le sous-système offre des taux élevés d'enlèvement des matériaux, des résultats de gravure précis et une excellente qualité de surface grâce à sa capacité fiable de contrôle des processus du sous-système. Il est capable de gravure monocouche ou multicouche, permettant des caractéristiques de dispositif de taille inférieure à 20 nanomètres. La configuration du processus de gravure est facile à configurer. Les composants Versalinx sont servomoteurs et donc très précis. La pression et la température sont réglables, tout comme la tension de polarisation et la puissance. De plus, la puissance maximale peut être ajustée et le champ électrique dirigé, aidant à correspondre aux taux de gravure de différents échantillons. La possibilité de personnaliser l'installation pour une variété de produits chimiques de gravure en fait un choix idéal pour les processus de gravure profonde du silicium, ainsi que la gravure critique des plaquettes 1x et 2x. Le réacteur de gravure Versalinx est parfait pour le traitement de puces avec des motifs symétriques précis. Son taux de gravure élevé et son excellent contrôle de la profondeur le rendent également idéal pour la gravure du tungstène ainsi que d'autres processus critiques post-dépôt. Il est également capable de manipuler toute une gamme de matériaux, tels que des métaux comme l'aluminium et le titane. Le système utilise un verrou de charge pour l'évacuation uniforme de la chambre et dispose d'un contrôleur de rail à bourrelet pour l'emplacement de l'échantillon. Ensemble, les caractéristiques contribuent à un débit global élevé et à un excellent contrôle du processus de gravure. En conclusion, APPLIED MATERIALS 0010-36162R est un réacteur de gravure haut de gamme qui est bien adapté à une grande variété d'applications de gravure. Il dispose d'excellentes capacités d'enlèvement de matériaux et de contrôle de profondeur, et est hautement personnalisable pour différentes chimies de gravure. Il peut graver des caractéristiques jusqu'à des tailles inférieures à 20 nanomètres, permettant la gravure profonde du silicium ainsi que la gravure du tungstène pour les processus post-dépôt. Avec sa conception robuste, son contrôle fiable des processus du sous-système et son excellent débit, il est un choix idéal pour une fabrication avancée de semi-conducteurs.