Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-36408 #9358045 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-36408
ID: 9358045
RF Match Assy DPS Chamber.
AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-36408 Le réacteur est un équipement polyvalent et haut de gamme conçu pour des applications de dépôt en surface et en couches minces. Le réacteur présente des innovations telles qu'une conception en flux hélicoïdal, une distribution de gaz actif et une enveloppe en céramique autonome peu profilée. La conception permet une grande homogénéité du dépôt des films et une très faible densité de défauts. Le système comporte une grande chambre de réaction et un volume allant jusqu'à 0,004 m3. L'uniformité des dépôts est encore renforcée par la conception novatrice du débit de gaz, qui utilise des techniques d'écoulement hélicoïdal et/ou serpentin pour améliorer le contact du gaz avec la surface. La répartition des gaz actifs correspond à des conditions de surface améliorées, avec une faible contamination des particules et une réduction importante des éléments métalliques réfractaires dans le film déposé. Ceci augmente à son tour la durée de vie du film déposé, rendant le réacteur AMAT 0010-36408 adapté aux procédés haut de gamme et de haute fidélité. Le réacteur est équipé d'une source RF insérable, qui permet des procédés de dépôt à faible pression et à faible bilan thermique, ce qui permet des applications de revêtement de grande valeur. Le réacteur dispose également d'un système de régulation de température précis, ainsi que d'un système de régulation de pression, chacun d'eux ayant été conçu pour un fonctionnement de précision. La gamme de température du réacteur est conçue pour couvrir une large gamme de taux de dépôt et de températures, jusqu'à 1800 ° C, avec des niveaux de bruit très bas. Ce réacteur haute performance est livré avec une panoplie de commandes automatisées, y compris une cloche en céramique à faible vibration, une protection de masque de film, des interruptions de processus et des fonctionnalités d'autobalance. MATÉRIAUX APPLIQUÉS 0010-36408 Le réacteur est adapté à une grande variété de besoins de dépôt de couches minces, ce qui en fait un choix idéal pour des applications de revêtement de haute fidélité et/ou de haute valeur. Son uniformité de dépôt de film et sa faible densité de défauts assurent des performances constantes dans le temps, ce qui permet d'obtenir des résultats précis et reproductibles.
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