Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-36734 #293640069 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-36734 est un équipement de traitement du plasma à haut débit et évolutif. Ce système est idéal pour les applications de gravure et de dépôt de haute précision, y compris la gravure au silicium et le dépôt en couches minces. Le réacteur AMAT 0010-36734 combine des fonctions avancées de contrôle, de gestion de la température et de contrôle des procédés. Cela permet des temps de cycle rapides, des processus de gravure et de dépôt optimisés, et des performances de processus répétables dans les environnements de salle blanche. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur 0010-36734 possède une chambre de procédé d'un volume interne de 27,2 litres et d'une taille externe de 827mm (32,5 po) de largeur x 1061mm (41,8 po) de profondeur x 984mm (38,7 po) de hauteur. Est inclus un piédestal bidirectionnel isolé de 3 zones capable de supporter une gamme de tailles et de formes de substrat, y compris des substrats circulaires et rectangulaires jusqu'à 200mm (7,9 po). Il a une pression de processus maximale de 200 mTorr et une pression de base de 1x10-8 Torr. 0010-36734 réacteur est actionné par un module de commande du processus SCPI-4 intégré. Ce module fournit un large soutien pour les paramètres de processus, la gestion des données de recette et le contrôle de pompe en temps réel. Il existe également un PC externe pour d'autres fonctionnalités, y compris l'ajustement à la volée des paramètres du processus, la surveillance du processus, l'analyse post-processus et l'enregistrement des données. AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-36734 est également équipé d'un ensemble de pompes à vide haute performance séparé. Cet emballage comprend une pompe turbo-moléculaire avec une vitesse de pompage de 40 l/s, une paire de pompes à rouleau sec rugueuses, et des contrôleurs associés. La pompe turbo-moléculaire permet des temps de cycle rapides et des niveaux élevés de gravure et de contrôle de dépôt, tandis que les pompes de défilement optimisent la pression de processus pour le traitement de précision. En plus de la chambre de process, la machine AMAT 0010-36734 comprend plusieurs fonctionnalités pour un contrôle optimal du process. Ces caractéristiques comprennent un outil d'injection de gaz à débit réglable avec commande de gaz à deux canaux, un générateur RF à double zone avec mesure de puissance in situ de forte puissance (2,45 GHz) et un générateur RF à deux zones. L'actif d'injection de gaz permet une distribution rapide et uniforme du gaz dans la chambre, tandis que les générateurs RF fournissent une puissance plasma précise et répétable au substrat cible. Enfin, le modèle APPLIED MATERIALS 0010-36734 est conçu pour être mis à niveau avec d'autres modules et composants de processus. Par exemple, une source de plasma supplémentaire, une chasse de chambre et un capteur de film résistif peuvent être ajoutés pour améliorer l'uniformité des procédés et améliorer le contrôle des gravures et des dépôts. Dans l'ensemble, le réacteur 0010-36734 offre des capacités de traitement plasma à haut débit dans des conditions répétables et contrôlées. Avec son équipement d'injection de gaz à débit réglable, ses générateurs RF et son système de pompe à vide, cette unité peut être utilisée pour obtenir des résultats de gravure et de dépôt de haute qualité. En outre, il offre des modules de processus supplémentaires, permettant aux utilisateurs de personnaliser leur machine en fonction de leurs besoins spécifiques.