Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-36734 #293807909 à vendre en France

ID: 293807909
Taille de la plaquette: 12"
Ceramic heater for Producer, 12".
AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-36734 est un sous-système de réacteur à chambre à dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Il est conçu pour être utilisé dans un équipement à faisceau d'électrons et est principalement utilisé pour le dépôt de matériaux sur des substrats ou des plaquettes préétablis. La chambre est capable de fonctionner dans des conditions allant de l'ultra-haute à la pression ambiante, ainsi que des températures allant jusqu'à 2000 ° C AMAT 0010-36734 comprend un injecteur céramique, un système d'échappement et une bobine RF pour la distribution de précurseurs ou de matériaux réactifs. Ceci est fait pour assurer une répartition uniforme des matériaux à l'intérieur de la chambre, ce qui conduit à des dépôts de haute efficacité et de qualité. De plus, la chambre est conçue avec plusieurs mesures prises pour protéger à la fois les substrats et les composants de l'unité contre la contamination et/ou les dommages potentiels causés par les charges électrostatiques. Ces mesures comprennent des revêtements de sol antistatiques, des douches à gaz inertes et des traitements muraux spécialisés. APPLIED MATERIALS 0010-36734 utilise également une technologie spécialisée pour améliorer les performances globales de la chambre, comme l'automatisation du contrôle de pression, le contrôle d'uniformité et le diagnostic à distance. Cela garantit un dépôt précis et cohérent des matériaux et des rendements de production améliorés. La chambre est également équipée d'un écran LCD contrôlé par ordinateur qui surveille et contrôle tous les paramètres de la chambre. Ce panneau fournit des informations telles que la pression, la température, la vitesse de dépôt, la puissance RF et la consommation de gaz. Cela permet aux opérateurs de contrôler leurs performances de processus en temps réel et d'ajuster leurs paramètres rapidement et efficacement. En conclusion, 0010-36734 est une machine à réacteur CVD standard de l'industrie. Il est conçu pour fournir des dépôts cohérents et de haute qualité aux substrats, tout en maintenant la sécurité de l'outil et en prévenant la contamination. La chambre utilise des technologies spécialisées pour assurer un environnement de dépôt précis et efficace et offre également une facilité de réglage grâce à son écran LCD contrôlé par ordinateur.
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