Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-53901 #293667961 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-53901 est un type de réacteur de type semi-conducteur. Ce réacteur est utilisé dans divers procédés industriels tels que le dépôt en phase vapeur et l'implantation ionique. Le réacteur est capable de contrôler la température et la pression du procédé, ce qui lui permet d'être plus précis dans ses opérations. Le réacteur est conçu pour assurer un contrôle précis de la chimie et de la température du procédé. Il est également conçu pour être efficace dans sa consommation d'énergie. Le réacteur est constitué d'une chambre qui sert à contrôler la température, la pression et la chimie du procédé. A l'intérieur de la chambre se trouve un élément chauffant, qui réchauffe le matériau de procédé, et un élément de refroidissement qui contribue à maintenir les parois de la chambre à une certaine température. Le réacteur est également conçu pour pouvoir accueillir différents matériaux, avec une variété de tailles et de formes différentes. Les matériaux comprennent différents types de métaux, de céramiques et de polymères. Le procédé principal du réacteur est de permettre l'exposition de ces matériaux au matériau cible, tel qu'un semi-conducteur. Le matériau cible est chauffé dans la chambre et le matériau de procédé y est exposé. Au cours de ce procédé, le matériau cible s'évapore, se vaporise et, enfin, réagit avec le matériau de procédé, entraînant une réaction chimique. Le réacteur est également conçu avec un panneau de commande, ce qui permet à l'opérateur d'ajuster la température, la pression et la chimie du procédé. Cela permet à l'opérateur d'avoir un contrôle maximal sur la façon dont le processus doit se dérouler. Le réacteur AMAT 0010-53901 est un outil fiable, efficace et précis dans le processus industriel. Ses caractéristiques de conception le rendent facile à utiliser et permettent un contrôle précis du processus. Le réacteur est capable de manipuler divers matériaux et tailles, et peut être utilisé pour la plupart des processus de dépôt en phase vapeur et d'implantation ionique.