Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-59787 #293665751 à vendre en France

RÉACTEUR AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS 0010-59787 PECVD est une chambre de dépôt conçue pour le dépôt de couches minces sur des substrats pour divers dispositifs et systèmes électroniques. Ce système utilise des procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) pour déposer le matériau en couche mince désiré sur la surface d'un substrat. Le réacteur PECVD présente une conception de chambre facile à utiliser, capable d'assurer une excellente uniformité de dépôt et une épaisseur de couche uniforme sur toute la surface du substrat. Le réacteur AMAT 0010-59787 comprend une seule chambre de chargement/déchargement automatisée, ainsi que des modules intégrés de puissance, de vide et de distribution de gaz. Cette chambre est conçue pour fournir des temps de chargement et de déchargement du substrat faibles, pour assurer des temps de traitement globaux plus courts. La chambre est également conçue pour atteindre des températures de processus plus élevées que les procédés traditionnels de CVD thermique, permettant la production de films de meilleure qualité. Le réacteur a été conçu pour offrir un fonctionnement simple et intuitif, avec une interface graphique facile à suivre et une architecture système robuste. La chambre a été conçue pour fournir une large fenêtre de traitement, permettant à l'utilisateur d'ajuster la température, la pression et d'autres paramètres de processus en fonction de leurs besoins de dépôt spécifiques. Cela permet aux utilisateurs de créer une grande variété de films minces de haute qualité. Le système réactif d'amenée de gaz dans ce réacteur utilise un procédé de dépôt chimique en phase vapeur à basse pression et basse température (LP-CVD) pour déposer le film désiré sur la surface du substrat. Le procédé LP-CVD permet aux utilisateurs de choisir parmi une variété de gaz de réaction et permet également d'ajuster la composition gazeuse pour créer des films très spécifiques. La chambre est également conçue pour offrir un dépôt de film extrêmement uniforme, avec le potentiel de profils d'épaisseur de film exacts et reproductibles sur la surface du substrat. La chambre dispose également d'un contrôleur facile à utiliser, avec une large gamme de fonctions d'enregistrement des données et de contrôle des processus, pour s'assurer que le processus est sûr et produit des résultats fiables. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur PECVD 0010-59787 est une puissante chambre de dépôt, offrant à la fois une uniformité de dépôt de haute qualité et un contrôle optimal des procédés, ce qui le rend parfait pour produire une large gamme de matériaux en couches minces pour les dispositifs et systèmes électroniques.