Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-65541 #293660489 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-65541 est un réacteur à plusieurs chambres conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il est utilisé pour la gravure, le dépôt de pulvérisateurs et le traitement thermique rapide des plaquettes, et convient à la fois pour 150 mm et 200 mm de plaquettes. L'unité se compose d'un ordinateur central en acier inoxydable, d'un contrôleur indépendant, d'une carte de puissance, d'un ensemble de pompes à vide et d'une unité de refroidissement de l'eau. La carte de puissance abrite l'alimentation des chambres de pulvérisation RF et des chambres de pulvérisation en courant continu haute tension, permettant aux chambres de fonctionner à des niveaux de puissance élevés. Il permet également de contrôler l'introduction de gaz depuis les sources de gaz externes jusqu'à la chambre de traitement. L'équipement de contrôle exploite une interface utilisateur, permettant à l'utilisateur de contrôler le processus, de surveiller les paramètres du processus, de configurer les paramètres du processus et de maintenir le processus. La chambre AMAT 0010-65541 comporte plusieurs composants, tels que deux sources de pulvérisation, une source de gaz et un système de refroidissement. Les deux sources de pulvérisation fournissent différents types de procédés de dépôt de couches minces de matériau semi-conducteur, tels que des oxydes et des nitrures. Le procédé de pulvérisation est utilisé pour déposer ou graver des matériaux. L'unité de refroidissement aide à maintenir une température stable de la plaquette pendant le traitement, tandis que les sources de gaz fournissent certains additifs chimiques à l'environnement de la chambre de traitement. L'unité contient également une machine à vide, qui aspire tout l'air présent dans la chambre avant traitement et maintient la pression à l'intérieur de la chambre pendant le traitement. Ceci est important pour maintenir la pureté des plaquettes obtenues et contrôler la réaction entre les gaz de procédé et le substrat. L'outil à vide est également relié à un ensemble de pompes à vide dédié. L'ensemble pompe à vide est conçu pour pomper les gaz résiduaires créés lors du traitement, améliorant ainsi la pureté de l'atmosphère de la chambre. Les matériaux appliqués 0010-65541 réacteur fournit une variété de caractéristiques pour la fabrication précise et efficace de plaquettes. Ses multiples sources de pulvérisation, ses sources de gaz et son actif de réfrigérant offrent un large éventail de capacités de traitement. Son modèle sous vide fiable maintient l'atmosphère du processus, tandis que son contrôleur indépendant permet à l'utilisateur de contrôler et de surveiller précisément l'équipement. Sa compatibilité avec les plaquettes de 150 mm et de 200 mm le rend adapté à une large gamme de procédés de fabrication. Toutes ces caractéristiques font de l'unité un excellent choix pour la fabrication de dispositifs et un outil fiable et efficace pour la fabrication de semi-conducteurs.