Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-70058 #293658101 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-70058 est un équipement de chambre hautement efficace conçu pour diverses applications dans les sciences des matériaux et le développement de procédés, comme le dépôt de couches minces. Ce système est capable de fournir des revêtements uniformes de haute qualité de matériaux en couches minces et est utilisé dans diverses applications telles que la microélectronique, le stockage de données et la photovoltaïque. Le réacteur AMAT 0010-70058 utilise une chambre de dépôt qui comporte une chambre à vide en acier inoxydable contenant de l'alumine de haute pureté renfermant un creuset en graphite amovible. La chambre de dépôt abrite également un faisceau d'équilibrage de précision, un générateur rf et d'autres composants matériels nécessaires pour contrôler les débits de dépôt. Cette unité comprend également une importante machine de contrôle de pression de chambre, contenue dans deux étages distincts. La première étape du contrôle de pression comprend une pompe turbomoléculaire pour réduire la pression de fond de gaz et une vanne à gaz rugueuse pour ajuster finement la pression à l'intérieur de la chambre. La deuxième étape de la commande de pression comprend une source de faisceau électronique couplée à une coupelle de Faraday et une vanne mécanique de grille pour contrôler précisément la vitesse de vaporisation et la pression de la chambre. L'outil utilise les dernières technologies et se compose de plusieurs composants optimisés pour une meilleure performance. Il offre des taux de traitement élevés, des épaisseurs de couche très uniformes, et un excellent contrôle du collage. Les différentes technologies utilisées dans le réacteur comprennent une gamme de lasers infrarouges et ultraviolets avancés et la microscopie électronique avancée. Pour le dépôt chimique en phase vapeur, le réacteur abrite un générateur RF, une ou deux traversées de filaments, un tube à quartz et une buse d'injection de gaz. En fonctionnement, les gaz sont guidés sur la cible où ils interagissent avec le matériau chauffé. Lorsque les atomes réagissent, ils déposent un film ou une couche de matériau sur le substrat. Cette couche peut varier en épaisseur de nanomètres à micromètres selon le matériau et les paramètres de fonctionnement. Outre le dépôt chimique en phase vapeur, le réacteur APPLIED MATERIALS 0010-70058 supporte également un certain nombre d'autres processus physiques de dépôt en phase vapeur, tels que le dépôt par pulvérisation et le dépôt assisté par faisceau d'ions. Lors du dépôt de pulvérisateurs, un matériau cible est placé dans la chambre à vide et bombardé d'atomes énergétiques. Ces atomes énergétiques cassent alors la surface du matériau formant un film mince. Le dépôt assisté par faisceau d'ions fonctionne en injectant un faisceau d'ions à haute énergie dans la chambre qui réagit alors avec le matériau cible. Dans l'ensemble, le réacteur 0010-70058 est un atout de haute performance conçu pour fournir des revêtements uniformes de haute qualité. En utilisant les dernières technologies, ce modèle est capable de fournir des épaisseurs de couches très uniformes et un excellent contrôle de collage. L'équipement est également capable de supporter une variété de procédés physiques de dépôt en phase vapeur, permettant son application à un large éventail de technologies en couches minces.