Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-75004 #9389377 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-75004 est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) sous vide à haute performance utilisé pour les processus de croissance de films. Il est conçu pour être utilisé dans la production de semi-conducteurs et d'autres procédés de fabrication de matériaux avancés. Ce réacteur offre la commodité d'un traitement de croissance de film à haut débit au coût le plus bas possible. Le réacteur AMAT 0010-75004 comprend une chambre à vide, une source de chauffage et un système d'injection de gaz. La chambre à vide chauffée est en acier inoxydable avec un revêtement résistant à l'hydrogène et fournit un profil de température homogène dans tout l'intérieur. La température de la chambre peut être facilement ajustée en fonction des paramètres de dépôt. La source de chauffage est un filament résistif puissant et fiable avec un écran de protection, qui peut être facilement changé pour chaque dépôt. Le système d'injection de gaz permet d'introduire une large gamme de gaz dans la chambre, permettant un contrôle précis des paramètres de dépôt. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur 0010-75004 offre une homogénéité et une répétabilité supérieures. Il dispose d'un contrôleur de processus automatisé pour le contrôle précis des paramètres du processus, y compris la pression, la température, le débit et la composition du gaz. Il dispose également d'un module de télécommande optionnel, permettant la surveillance et le réglage en temps réel du processus à partir d'un ordinateur. La chambre de 0010-75004 est équipée d'un système d'aération puissant pour maintenir une pression de vide sûre. Il est également équipé d'une tête de douche d'entrée pour minimiser le dépôt de particules. Pour éviter toute contamination, le réacteur est équipé d'un refroidisseur à eau dédié et d'une plaque de protection échangeable. La plaque de protection assure un fonctionnement sûr et fiable du réacteur. Le réacteur AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS 0010-75004 fournit un large éventail d'opérations pour répondre aux besoins du processus de fabrication des semi-conducteurs. Il offre un processus à haut débit et répétable sans précédent avec des rendements élevés. Le réacteur peut être utilisé pour une variété de processus de croissance de film, de la pulvérisation à l'épitaxie, l'épitaxie du faisceau moléculaire, et plus encore. AMAT 0010-75004 est adapté aux procédés avancés de fabrication de matériaux, tels que la gravure de plaquettes de silicium, le traitement du silicium sur isolant, et bien d'autres.