Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-75005 #293591839 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-75005 est un réacteur conçu pour le dépôt léger de couches minces. Il est utilisé dans les dépôts de silicium et de semi-conducteurs composés, ainsi que de LED et d'autres matériaux optoélectroniques. Le réacteur comporte une grande chambre de procédé, d'un diamètre de 36 pouces et d'une profondeur de 35 pouces. La chambre est un environnement de processus inerte, qui permet la gamme complète des températures, les conditions de vide et les niveaux de propreté nécessaires pour le dépôt. Il est doté d'un mur chaud, d'un équipement de pompe Turbo Torr et d'une alimentation RF en fréquence directe. La conception de la paroi chaude offre une excellente uniformité de température et un plasma directionnellement bien contrôlé. Le système d'alimentation électrique offre une homogénéité, un débit de dose et une répétabilité supérieurs dans les procédés à couches minces. Il permet également un meilleur contrôle de la taille et de la forme des nanostructures. C'est une caractéristique importante pour les applications de dépôt léger nécessitant un contrôle précis de l'épaisseur de la couche. La chambre de procédé est équipée d'un panier d'électrodes, ce qui permet une grande flexibilité dans la disposition des électrodes. Il s'agit d'une caractéristique précieuse pour plusieurs procédés de couches minces, comme l'épitaxie, où il est nécessaire de créer des structures auto-assemblées avec un contrôle précis de l'épaisseur du film. Le réacteur AMAT 0010-75005 comprend également des canons à électrons à entraînement direct, une commande d'obturateur à plusieurs niveaux, une instrumentation de processus et une unité de surveillance automatisée des processus. Ces caractéristiques garantissent une plus grande précision et répétabilité dans les dépôts de couches minces. Les paramètres du processus peuvent être changés rapidement, sans avoir besoin d'un réglage manuel. La machine de contrôle automatisé des processus permet également une rétroaction complète sur l'état des processus, ce qui contribue à garantir des performances optimales. Cela contribue à réduire la variabilité, entraînant ainsi des productions plus cohérentes. Dans l'ensemble, le réacteur DES MATÉRIAUX APPLIQUÉS 0010-75005 est un excellent outil pour les procédés de dépôt léger. Il offre une excellente uniformité de température, un contrôle précis de la taille et de la forme des nanostructures, et une rétroaction complète sur l'état du processus, assurant ainsi une performance et une répétabilité optimales. Avec son large éventail de caractéristiques, ce réacteur est un choix idéal pour les dépôts de matériaux LED et optoélectroniques.