Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-77533 #293655752 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-77533 est un réacteur de pointe conçu pour le dépôt de couches minces. Le réacteur est doté d'un système à flux croisé à deux zones, à cellules fermées, avec une source et un blindage orientés verticalement. Le bouclier est contenu dans la cellule à gaz chauffé, qui est chauffée par une lampe à quartz de grande puissance et utilise des mécanismes de contrôle précis pour assurer un dépôt cohérent de couches minces de qualité. La pile à gaz chauffé est conçue pour maintenir une température uniforme grâce à l'utilisation d'un régulateur de débit massique différentiel. Ceci assure un dépôt de film fiable et reproductible et maintient des conditions de dépôt optimales. La source et le bouclier sont également optimisés pour réduire la contamination, ce qui permet d'assurer des couches minces de haute qualité avec une variabilité minimale. Afin d'obtenir une épaisseur de film uniforme, le réacteur AMAT 0010-77533 comporte une armature à trois axes. Cette armature dispose d'un système de commande en rotation qui minimise les effets de la gravité et maintient des vitesses de dépôt uniformes sur tous les matériaux sur les parois de la chambre. L'armature est construite en matériau résistant à la température élevée et est capable de monter et descendre, côte à côte, et dans et hors de la chambre de processus pour garantir un transfert d'énergie thermique uniforme vers la zone de dépôt. Le réacteur est équipé de plusieurs caractéristiques avancées pour surveiller et contrôler le processus de dépôt. Ceux-ci comprennent un contrôleur de température de quartz précis et précis qui est capable de maintenir des plages de température prédéfinies. Cela permet d'assurer un dépôt cohérent et uniforme. De plus, le réacteur comprend une spectroscopie optique des émissions (OES) pour surveiller les paramètres du processus tels que l'oxygène, l'argon, l'azote, le soufre et d'autres gaz. Cela assure un contrôle précis du processus de dépôt et contribue à améliorer le débit. Le réacteur APPLIED MATERIALS 0010-77533 offre également une gamme de fonctionnalités d'automatisation pour améliorer la productivité et l'efficacité. Cela inclut le contrôle automatique de la puissance, le contrôle automatique du débit d'alimentation et le blindage automatique. La commande automatique de puissance permet des performances répétables et cohérentes et réduit la durée du processus de dépôt. Le contrôle automatique du débit d'alimentation aide à améliorer la précision et la répétabilité lors de l'acheminement du matériau vers la chambre de dépôt. Enfin, le blindage automatique permet de réduire le risque de contamination et de prolonger la durée de vie des composants. Dans l'ensemble, le réacteur 0010-77533 est conçu pour fournir des couches minces de haute qualité de manière sûre, efficace et répétable. Il est doté d'un système à flux transversal à deux zones, à cellules fermées, avec une source et un bouclier orientés verticalement, une cellule à gaz chauffée à la lampe à quartz et une armature à trois axes pour un dépôt uniforme. L'unité est également équipée de fonctions de surveillance et d'automatisation avancées pour augmenter la productivité et améliorer la qualité du film.